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排気性能 到達圧力
≦5.0×10^ｰ6Pa
排気性能 排気時間
≦1.0×10^ｰ2Pa (DRP＋TMP) 60min以内
真空槽
SUSチャンバ (水冷ジャケット式)
排気系 主排気ポンプ
クライオポンプ ターボ分子ポンプ (水冷)
排気系 補助ポンプ
ドライ真空ポンプ or油回転ポンプ
排気系 各種バルブ
PLC操作 (自動および手動)
真空計 低真空
ピラニ真空計
真空計 高真空
電離真空計
槽内アクセス アクセスドア
Oリングシール
機能 加熱温度
常用750℃ MAX1,000℃
機能 有効加熱範囲
(W×D×H) ＝1,000mm×1,000mm×2,000mm
機能 昇温速度
750℃/150分 (無負荷)
制御系 主操作
制御盤 PLC操作
制御系 自動動作機能
排気系動作 プロセス運転
オプション べントガス (増設、変更)
Ar他
オプション プロセスガス
O2、H2他
ユーティリティ 電力・接地
主電源系 3Φ AC210V 730A 50/60Hz
ユーティリティ 冷却水
供給圧：0.2~0.3MPa 水温：20~35℃ 水量：≧200L/min
ユーティリティ ペントガス
窒素ガス 0.1~0.15MPa
ユーティリティ 圧縮空気
0.5~0.8MPa
ユーティリティ 設置面積
(W×D×H) ＝10,150mm×4,000mm×2,500mm
型番
大型高温真空加熱装置－1,000℃－取扱企業
株式会社日本シード研究所カテゴリ
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真空炉の製品157点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 排気性能 到達圧力 | 排気性能 排気時間 | 真空槽 | 排気系 主排気ポンプ | 排気系 補助ポンプ | 排気系 各種バルブ | 真空計 低真空 | 真空計 高真空 | 槽内アクセス アクセスドア | 機能 加熱温度 | 機能 有効加熱範囲 | 機能 昇温速度 | 制御系 主操作 | 制御系 自動動作機能 | オプション べントガス (増設、変更) | オプション プロセスガス | ユーティリティ 電力・接地 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ ペントガス | ユーティリティ 圧縮空気 | ユーティリティ 設置面積 |
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要見積もり | ≦5.0×10^ｰ6Pa |
≦1.0×10^ｰ2Pa (DRP＋TMP) 60min以内 |
SUSチャンバ (水冷ジャケット式) |
クライオポンプ ターボ分子ポンプ (水冷) |
ドライ真空ポンプ or油回転ポンプ |
PLC操作 (自動および手動) | ピラニ真空計 | 電離真空計 | Oリングシール |
常用750℃ MAX1,000℃ |
(W×D×H) ＝1,000mm×1,000mm×2,000mm |
750℃/150分 (無負荷) |
制御盤 PLC操作 |
排気系動作 プロセス運転 |
Ar他 | O2、H2他 |
主電源系 3Φ AC210V 730A 50/60Hz |
供給圧：0.2~0.3MPa 水温：20~35℃ 水量：≧200L/min |
窒素ガス 0.1~0.15MPa |
0.5~0.8MPa | (W×D×H) ＝10,150mm×4,000mm×2,500mm |
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構造形式が横型炉の製品
真空炉をフィルターから探すことができます
使用用途
#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡加熱方式
抵抗加熱型 高周波加熱型 輻射加熱 直接通電 抵抗加熱構造形式
横型炉 縦型炉 チャンバ型 バッチ型真空到達度
低真空型 中真空型 高真空型特殊機能
ガス置換型 急速昇降温型最高温度 ℃
600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400常用温度 ℃
500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200到達真空度 Pa
0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150
