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光計測器・制御器 Siウェハ厚み測定器-株式会社アルネア

全型番で同じ値の指標

測定対象物

シリコン基板

厚み測定範囲 (µm)

10~500 (n=3.5のとき)

測定光源 (nm)

波長可変光源 (1,515~1,585)

光出カパワー (mW)

0.6、クラス1

ガイド用光源

赤色LD、クラス1M

計測時間 (ms)

最小20

測定再現性 (µm)

0.1以下 (3alにおいて)

モニタ出力

干渉出力信号

PCインターフェース

Ethernet

電源電圧 (V)

AC 100-240 (50 / 60 Hz)

外観寸法 (WxH×D) (mm)

364 x 147 x 391

重量 (kg)

9

この製品について

【概要】 ・シリコン基板の厚みを高感度でリアルタイム測定 ・干渉計測のために高純度の波長可変光源を高速掃引 ・波長掃引方式のため、高感度測定が可能

  • 型番

    Siウェハ厚み測定器

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光計測器・制御器 Siウェハ厚み測定器 Siウェハ厚み測定器の性能表

商品画像 価格 (税抜) 測定対象物 厚み測定範囲 (µm) 測定光源 (nm) 光出カパワー (mW) ガイド用光源 計測時間 (ms) 測定再現性 (µm) モニタ出力 PCインターフェース 電源電圧 (V) 外観寸法 (WxH×D) (mm) 重量 (kg)
光計測器・制御器 Siウェハ厚み測定器-品番-Siウェハ厚み測定器 要見積もり シリコン基板 10~500 (n=3.5のとき) 波長可変光源 (1,515~1,585) 0.6、クラス1 赤色LD、クラス1M 最小20 0.1以下 (3alにおいて) 干渉出力信号 Ethernet AC 100-240 (50 / 60 Hz) 364 x 147 x 391 9

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使用用途

#金属加工 #プラスチック成形 #フィルム検査 #紙製品検査 #半導体検査 #塗装管理 #ガラス製造 #電池製造 #医療機器製造

測定原理

接触式 非接触式 超音波式 渦電流式

測定方式

単点式 ラインスキャン式 面スキャン式

構造形態

卓上型 ハンディ型 インライン型

測定対象

薄膜対応型 厚板対応型

測定範囲 mm

0 - 1 1 - 10 10 - 100 100 - 500 500 - 1,000

分解能 秒

0 - 0.01 0.01 - 0.1 0.1 - 1 1 - 10 10 - 10,000

測定精度 mm

0 - 0.01 0.01 - 0.1 0.1 - 1

繰り返し精度 μm

0 - 0.1 0.1 - 1 1 - 5 5 - 10

重量 kg

0 - 1 1 - 10 10 - 500

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社アルネアラボラトリは2001年に設立された、光フィルタ・レーザー光源のメーカーです。 照明やレーザーの透過率を制御・調整する光フィルター、レーザー光源装置、電子計測器などの製造が主な事業内容であり、開発試作品か...

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  • 本社所在地: 東京都

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