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全反射蛍光X線分析装置 ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析 TXRF 3760-株式会社リガク

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100.0%

返答時間

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手法

全反射蛍光X線 (TXRF)

用途

ウェーハ汚染を測定するためのNaからUまでの元素分析

主要コンポーネント

最大200 mmウェーハ対応XYθサンプルステージシステム、真空ウェーハ内ロボット搬送システム、ECS / GEM通信ソフトウェア

制御 (PC)

内部PC、MS Windows® OS

本体寸法

1,000 (W) x 1,760 (H) x 948 (D) mm

質量

100 kg (本体)

電源

三相 200 VAC 50/60 Hz, 100 A

この製品について

■ロータ型高出力X線発生装置と新設計入射X線モノクロメーターを採用

ダイレクトTXRF測定法で遷移金属LLD10^8atoms/cm2レベルを実現。封入型X線管の1/3の測定時間で同じ精度が得られ高スループットを実現しました。 概要

■1ターゲット3ビーム方式を採用

3種類の分光結晶により、測定元素に最適な単色化X線ビームを取り出し、汚染元素励起に使用する特許方式です。軽元素測定用のW-Mα線は、Siを励起しないため、Na,Mg,Al分析が可能になりました。Na~Uまで連続的に高精度自動分析を行います。

■回折線除去により散乱線の影響を極小化

高次反射を抑えた光学系とX-Y-θ駆動ステージを採用し、X線入射方位自動選択機能により基板からの回折線を無くし、散乱線の妨害を極小化した高S/N測定が行えます。ウェーハ全面の正確で高精度な微量分析が可能です。

■異物検査座標データとの座標リンクが可能

異物検査装置の座標データをTXRF装置に取り込み、パーティクル存在箇所の汚染元素分析が可能です。独自のアルゴリズム採用の点滴痕サーチ機能はすばやく正確な座標が求められます。

■ウェーハ面内高速汚染スクリーニング「Sweeping-TXRF機能」

ダイレクトTXRF法でウェーハ面内をもれなく高速測定し、汚染元素の分布状態を明らかにするSweeping-TXRF法が使用できます。従来の面内5点や9点といった代表座標測定では捉えられなかったウェーハ全面の汚染分析を短時間で行います。200mmウェーハ全面の5×10^10atoms/cm2の汚染検出を僅か30分で完了します。汚染元素の分布状態のほか、全面の測定値を積算してウェーハ面内平均汚染濃度も算出可能です。

■エッジエクスクルージョン0mm非破壊・非接触汚染測定「ZEE-TXRF機能」

これまでTXRF法では測定できなかったウェーハエッジ近傍の高感度測定を実現しました。汚染が集中するエッジ部の汚染分析がTXRFで可能になりました。

■各種CIM/FAに対応

ホストコンピューターとSECS通信可能で、各種CIM/FAに対応します。オープンカセットの他、SMIFPODにも対応可能 (オプション) です。

  • 型番

    TXRF 3760

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全反射蛍光X線分析装置 ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析 TXRF 3760 TXRF 3760の性能表

商品画像 価格 (税抜) 手法 用途 主要コンポーネント 制御 (PC) 本体寸法 質量 電源 オプション テクノロジー
全反射蛍光X線分析装置 ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析 TXRF 3760-品番-TXRF 3760 要見積もり 全反射蛍光X線 (TXRF) ウェーハ汚染を測定するためのNaからUまでの元素分析 最大200 mmウェーハ対応XYθサンプルステージシステム、真空ウェーハ内ロボット搬送システム、ECS / GEM通信ソフトウェア 内部PC、MS Windows® OS 1,000 (W) x 1,760 (H) x 948 (D) mm 100 kg (本体) 三相 200 VAC 50/60 Hz, 100 A

スイープTXRFソフトウェア (「ホットスポット」を識別するためにウェーハ表面上の汚染物質分布のマッピングを可能にする。 ゼロエッジ除外で測定を可能にするZEE-TXRF機能)

液体窒素フリー検出器を備えた3ビームTXRFシステム


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使用用途

#元素分析 #構造解析 #研究開発 #マッピング #異物検出 #微小部測定 #粉末試料 #薄膜

測定原理

波長分散型 エネルギー分散型 回折型 蛍光型

分析対象

元素分析型 結晶構造解析型

測定対象形状

バルク対応型 微小領域対応型

装置構成

卓上型 据置型

検出器

FPD HPC検出器 シリコンドリフト検出器

測定可能なq範囲 nm-1

0 - 30 30 - 50

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この商品の取り扱い会社情報

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115.0時間

会社概要

株式会社リガクは、X線分析装置メーカーです。
リガクはX線分析に要する基礎技術と要素部品を独自に開発しており、X線源、光学機器、検出器等の主要な要素技術について世界のトップ水準にあります。

19...

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  • 本社所在地: 東京都

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