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反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000-株式会社リガク

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返答率

100.0%

返答時間

115.0時間

全型番で同じ値の指標

手法

X線反射率 (XRR) 、エネルギー分散型蛍光X線分析 (EDXRF) 、X線回折 (XRD)

利点

超薄膜からミクロンオーダーの膜までの製品ウェーハの高スループット測定;幅広い厚さと膜タイプに適用可能

特性

ブランケットおよびパターン化ウェーハの計測 モノクロマチックなマイクロスポットX線ビームモジュール (COLORS)

特長

最大108のダイナミックレンジを持つ超高速検出器 デュアルオープンカセットロードポート

寸法

1,612 (幅) ×3,395 (奥行き) ×2,118 (高さ) mm

測定結果

EDXRF:膜の厚さと組成 XRR:膜の厚さ、密度、および粗さ

この製品について

■XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール

組成および膜厚 (EDXRF) 、膜厚、密度、および粗さ (XRR) について、未パターン化およびパターン化された薄膜のための最大200mmウェーハに対して、光学技術や超音波技術では実現不可能な高精度測定を行います。この高度なX線計測ツールは、超薄単層薄膜から多層積層膜までの製品およびブランケットウェーハに対する高スループット測定を実用的に行うことができます。 概要

■大量生産向けに設計

高スループットのXRRおよびXRFによる膜厚測定、低汚染ウェーハハンドリング、製品ウェーハ測定のためのパターン認識ベースの位置制御、半導体製造用クリーンルーム運用のCEマーキングおよびSEMIS2/S8コンプライアンス、SECS/GEM、高い信頼性のある機械性能、低消費電力コストおよび低所有コストを実現します。オープンカセットおよびSMIFポッド構成で利用可能です。

■膜厚および密度モニター

XTRAIAMF-2000には、XRRおよびXRD測定用の二次元検出器であるHyPix3000が装備されています。この検出器は、100µmx100µmのピクセルサイズを持つ約30万個のピクセルを有しています。X線光子が入射すると、各ピクセルセンサーは入射光子の数を1つずつカウントすることができます。

■XRR測定は5倍速く

高解像度および高ダイナミックレンジ (10⁸) により、XRRは超薄膜 (サブナノメートル) から厚膜 (450nm) までの幅広い膜厚を評価できます。二次元検出器とX線反射率 (XRR) 測定を使用することで、従来のモデルと比較してXTRAIAMF-2000の測定速度が5倍向上しました。

■低結晶性の微結晶薄膜

さらに、XRRおよびX線回折 (XRD) の高い性能により、需要が高まっている非常に薄い低結晶性薄膜の測定が可能です。

  • 型番

    XTRAIA MF-2000

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反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000 XTRAIA MF-2000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 手法 利点 特性 特長 寸法 測定結果 オプション テクノロジー
反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000-品番-XTRAIA MF-2000 要見積もり X線反射率 (XRR) 、エネルギー分散型蛍光X線分析 (EDXRF) 、X線回折 (XRD) 超薄膜からミクロンオーダーの膜までの製品ウェーハの高スループット測定;幅広い厚さと膜タイプに適用可能 ブランケットおよびパターン化ウェーハの計測
モノクロマチックなマイクロスポットX線ビームモジュール (COLORS)
最大108のダイナミックレンジを持つ超高速検出器 デュアルオープンカセットロードポート 1,612 (幅) ×3,395 (奥行き) ×2,118 (高さ) mm EDXRF:膜の厚さと組成 XRR:膜の厚さ、密度、および粗さ

SECS/GEMソフトウェア SMIFロードポート

2つのオープンカセットロードポートを備えたプロセスマイクロスポットXRR、EDXRF、およびXRD


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使用用途

#元素分析 #構造解析 #研究開発 #マッピング #異物検出 #微小部測定 #粉末試料 #薄膜

測定原理

波長分散型 エネルギー分散型 回折型 蛍光型

分析対象

元素分析型 結晶構造解析型

測定対象形状

バルク対応型 微小領域対応型

装置構成

卓上型 据置型

検出器

FPD HPC検出器 シリコンドリフト検出器

測定可能なq範囲 nm-1

0 - 30 30 - 50

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

115.0時間

会社概要

株式会社リガクは、X線分析装置メーカーです。
リガクはX線分析に要する基礎技術と要素部品を独自に開発しており、X線源、光学機器、検出器等の主要な要素技術について世界のトップ水準にあります。

19...

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  • 本社所在地: 東京都

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