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返答率
100.0%
返答時間
22.7時間
計測方式
フーリエ変換干渉膜厚計測法
測定配置
反射、透過 (オプション)
測定サイズ
20 × 20 ~ 500 × 500µm (顕微モデル) φ2, 3, 4, 6mm (マクロモデル)
モニタリング
内蔵CMOSカメラにより測定部位を確認 (顕微モデルのみ)
測定膜厚範囲
0.25µm~750µm (近赤外でSiを測定した場合) 0.7µm~750µm (中赤外でSiを測定した場合)
測定膜厚再現性
0.005µm以下 (同一点繰返し測定時、Siの場合)
ストローク
200mm×200mm*1
駆動分解
2µm
装置制御
JASCOスペクトルマネージャによる光学系制御/XYステージ制御/搬送機制御 (オプション)
型番
UTS-2000シリーズ
膜厚測定装置 UTS-2000取扱企業
日本分光株式会社カテゴリ
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返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 計測方式 | 測定配置 | 測定サイズ | モニタリング | 測定膜厚範囲 | 測定膜厚再現性 | ストローク | 駆動分解 | 装置制御 |
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要見積もり | フーリエ変換干渉膜厚計測法 | 反射、透過 (オプション) |
20 × 20 ~ 500 × 500µm (顕微モデル) φ2, 3, 4, 6mm (マクロモデル) |
内蔵CMOSカメラにより測定部位を確認 (顕微モデルのみ) |
0.25µm~750µm (近赤外でSiを測定した場合) 0.7µm~750µm (中赤外でSiを測定した場合) |
0.005µm以下 (同一点繰返し測定時、Siの場合) | 200mm×200mm*1 | 2µm | JASCOスペクトルマネージャによる光学系制御/XYステージ制御/搬送機制御 (オプション) |
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