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測定方式
フォトニック結晶アレイ並列処理方式
測定再現性
膜厚: 0.1nm, 屈折率: 0.001
光源
半導体レーザ (typ. 636nm)
最小測定領域
広域モード:0.5mm×0.05mm 高精細モード:5.5um×5.5um
入射角度
70[deg]
標準ステージサイズ
最大8inchウェハー対応
測定速度
毎分1,000点 (参考)
寸法・重量
システム全体:650 W×650 D×1,740 H [mm], 約200kg
製品内容
ME210システム一式、操作パソコン、 標準サンプル ソフトウェア (インストールCD) 、取扱説明書
型番
ME-210取扱企業
株式会社菱光社カテゴリ
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商品画像 | 価格 (税抜) | 測定方式 | 測定再現性 | 光源 | 最小測定領域 | 入射角度 | 標準ステージサイズ | 測定速度 | 寸法・重量 | 製品内容 |
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要見積もり | フォトニック結晶アレイ並列処理方式 | 膜厚: 0.1nm, 屈折率: 0.001 | 半導体レーザ (typ. 636nm) |
広域モード:0.5mm×0.05mm 高精細モード:5.5um×5.5um |
70[deg] | 最大8inchウェハー対応 | 毎分1,000点 (参考) |
システム全体:650 W×650 D×1,740 H [mm], 約200kg |
ME210システム一式、操作パソコン、 標準サンプル ソフトウェア (インストールCD) 、取扱説明書 |