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258.4時間
測定項目
遊離塩素 (低濃度) /全塩素 (低濃度) /濁度 (レシオ/非レシオ)
測定範囲 濁度 (非レシオ)
0.00~9.99;10.0~40.0 NTU 0.0~99.9;100~268 nephelos 0.00~9.80 EBC0.00~9.99、10.0~99.9、100~1,000NTU
測定範囲 濁度 (レシオ)
0.00~9.99;10.0~99.9;100~4000 NTU 0.0~99.9;100~26,800 nephelos 0.00~9.99;10.0~99.9;100~980 EBC
測定範囲 残留塩素
0.00~5.00mg/L (遊離塩素/全塩素とも)
分解能 濁度 (非レシオ)
0.01;0.1 NTU、0.1;1 nephelos、0.01 EBC
分解能 濁度 (レシオ)
0.01;0.1;1 NTU、0.1;1 nephelos、0.01;0.1;1 EBC
分解能 残留塩素
0.01mg/L (3.50mg/Lまで) 、0.10mg/L (3.50mg/L以上)
精度 濁度
測定値の±2%+0.02NTU (0.15nephelos;0.01EBC) 測定値の±5% (1,000NTU;67,00nephelos;245EBCより濃度が高い場合)
精度 残留塩素
±0.03mg/Lまたは測定値の±3%のどちらか大きい方
測定原理 濁度
90°散乱光方式
測定原理 残留塩素
DPD吸光光度法
校正 濁度
2点、3点、4点、または5点校正
校正 残留塩素
1点校正
使用外部環境
0~50℃
発光源
タングステンランプ
受光部 濁度
シリコンフォトセル
受光部 残留塩素
フィルター装置付シリコンフォトセル (525nm)
液晶画面
40×70mm バックライト付グラフィックLCD
データメモリー
200データ
PC接続
USB
電源
ACアダプター
自動電源オフ
15分間の未使用後
サイズ
長さ230×幅200×厚さ145mm
重さ
2.5kg
型番
HI 83414取扱企業
ハンナインスツルメンツ・ジャパン株式会社カテゴリ
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商品画像 | 価格 (税抜) | 測定項目 | 測定範囲 濁度 (非レシオ) | 測定範囲 濁度 (レシオ) | 測定範囲 残留塩素 | 分解能 濁度 (非レシオ) | 分解能 濁度 (レシオ) | 分解能 残留塩素 | 精度 濁度 | 精度 残留塩素 | 測定原理 濁度 | 測定原理 残留塩素 | 校正 濁度 | 校正 残留塩素 | 使用外部環境 | 発光源 | 受光部 濁度 | 受光部 残留塩素 | 液晶画面 | データメモリー | PC接続 | 電源 | 自動電源オフ | サイズ | 重さ |
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¥550,000 | 遊離塩素 (低濃度) /全塩素 (低濃度) /濁度 (レシオ/非レシオ) | 0.00~9.99;10.0~40.0 NTU 0.0~99.9;100~268 nephelos 0.00~9.80 EBC0.00~9.99、10.0~99.9、100~1,000NTU | 0.00~9.99;10.0~99.9;100~4000 NTU 0.0~99.9;100~26,800 nephelos 0.00~9.99;10.0~99.9;100~980 EBC | 0.00~5.00mg/L (遊離塩素/全塩素とも) | 0.01;0.1 NTU、0.1;1 nephelos、0.01 EBC | 0.01;0.1;1 NTU、0.1;1 nephelos、0.01;0.1;1 EBC | 0.01mg/L (3.50mg/Lまで) 、0.10mg/L (3.50mg/L以上) |
測定値の±2%+0.02NTU (0.15nephelos;0.01EBC) 測定値の±5% (1,000NTU;67,00nephelos;245EBCより濃度が高い場合) |
±0.03mg/Lまたは測定値の±3%のどちらか大きい方 | 90°散乱光方式 | DPD吸光光度法 | 2点、3点、4点、または5点校正 | 1点校正 | 0~50℃ | タングステンランプ | シリコンフォトセル | フィルター装置付シリコンフォトセル (525nm) | 40×70mm バックライト付グラフィックLCD | 200データ | USB | ACアダプター | 15分間の未使用後 | 長さ230×幅200×厚さ145mm | 2.5kg |