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計測膜厚範囲
100nm~20μm ※材質、条件によります。
測定速度
約20ライン／秒 ※材質、条件によります。
繰り返し再現性
3σ＜1.0nm ※校正された厚さ1μmのSiウェーハ上のSiO2膜にて。
型番
FDC-W2520取扱企業
JFEテクノリサーチ株式会社カテゴリ
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 計測膜厚範囲 | 測定幅 | 空間分解能 | 測定速度 | 繰り返し再現性 | 装置サイズ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
要見積もり |
100nm~20μm ※材質、条件によります。 |
100mm ※対象物により、更なる幅広対応も可能です。 |
0.13mm |
約20ライン／秒 ※材質、条件によります。 |
3σ＜1.0nm ※校正された厚さ1μmのSiウェーハ上のSiO2膜にて。 |
W320×D220×H850mm |
膜厚計をフィルターから探すことができます
測定範囲 μm
0 - 10 10 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 5,000 5,000 - 10,000 10,000 - 10,000,000測定方式
電磁誘導式/渦電流式 電磁式 渦電流式 光熱放射法 超音波式 静磁気式 4探針電気抵抗式 電解式 蛍光X線 微小面積電解式 パルス反射式測定精度 μm
0 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 60 60 - 100 100 - 250分解能 μm
0 - 1 1 - 100データメモリ数 点
1,000 - 10,000 10,000 - 40,000 40,000 - 260,000 260,000 - 2,000,000質量 g
0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 10,000 10,000 - 90,000
