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100.0%
返答時間
9.1時間
計測膜厚範囲
100nm~10μm ※材質、条件によります。
測定サイズ
局所測定：約3mm角 全面測定：約150mm (6インチウェーハ)
測定点数
約20万点
空間分解能
約5μm
測定速度
局所測定：約30秒 全面測定：約10分 ※材質、条件によります。
繰り返し再現性
3σ＜1.0nm ※校正された厚さ1μmのSiウェーハ上のSiO2膜にて。
装置サイズ
W500×D620×H280mm
型番
FDC-H1510取扱企業
JFEテクノリサーチ株式会社カテゴリ
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膜厚計の製品167点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 計測膜厚範囲 | 測定サイズ | 測定点数 | 空間分解能 | 測定速度 | 繰り返し再現性 | 装置サイズ |
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要見積もり |
100nm~10μm ※材質、条件によります。 |
局所測定：約3mm角 全面測定：約150mm (6インチウェーハ) |
約20万点 | 約5μm |
局所測定：約30秒 全面測定：約10分 ※材質、条件によります。 |
3σ＜1.0nm ※校正された厚さ1μmのSiウェーハ上のSiO2膜にて。 |
W500×D620×H280mm |
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使用用途が半導体検査の製品
膜厚計をフィルターから探すことができます
使用用途
#塗装検査 #めっき管理 #コーティング管理 #フィルム評価 #半導体検査 #電子部品検査 #自動車部品検査 #建材検査 #印刷品質管理 #材料研究 #表面処理管理測定範囲 μm
0 - 10 10 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 5,000 5,000 - 10,000 10,000 - 10,000,000測定方式
電磁誘導式/渦電流式 電磁式 渦電流式 光熱放射法 超音波式 静磁気式 4探針電気抵抗式 電解式 蛍光X線 微小面積電解式 パルス反射式測定精度 μm
0 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 60 60 - 100 100 - 250分解能 μm
0 - 1 1 - 100データメモリ数 点
1,000 - 10,000 10,000 - 40,000 40,000 - 260,000 260,000 - 2,000,000質量 g
0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 10,000 10,000 - 90,000
