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100.0%
返答時間
35.9時間
解像度
150nm ハーフピッチ (リニアグレーティング) DUV光源選択時 75nmハーフピッチ (リニアグレーティング)
基板サイズ
~φ100mm
マスクフォーマット
5"
照度均一性
＜3%
ピッチレンジ
300nm~3µm (DUV光源選択時 150nm~)
レジスト厚
1µm程度
オペレーション
手動ローディング – 自動露光
コントロール
タッチパネル
型番
PhableR 100取扱企業
株式会社協同インターナショナルカテゴリ
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半導体露光装置の製品32点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 解像度 | 基板サイズ | マスクフォーマット | 照度均一性 | ピッチレンジ | レジスト厚 | オペレーション | コントロール |
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要見積もり | 150nm ハーフピッチ (リニアグレーティング) DUV光源選択時 75nmハーフピッチ (リニアグレーティング) | ~φ100mm | 5" | ＜3% | 300nm~3µm (DUV光源選択時 150nm~) | 1µm程度 | 手動ローディング – 自動露光 | タッチパネル |
半導体露光装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途がナノテクノロジーの製品
半導体露光装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折露光方式
ステッパ型 スキャナ型 フラッシュ型 ダイレクト描画型光源種類
紫外光型 エキシマレーザー型対応基板サイズ
6インチ対応型 8インチ対応型 12インチ対応型精度制御方式
光学制御型 ステージ制御型光源波長 nm
300 - 400 400 - 500 500 - 600最小露光線幅 μm
0 - 10 10 - 20ワークサイズ mm
0 - 100 100 - 200 200 - 300露光領域 mm
0 - 50 50 - 100 100 - 150ステージ
手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ重量 kg
0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300
