EMA-400 | 卓上型マスクアライナ EMA-400
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マスクサイズ

□5インチ

ウエハサイズ

φ4インチ

露光照明

250W超高圧水銀灯光学方式インテグレータレンズ方式照度ムラ±5％以下照度20mW/cm2 (405nm) 有効露光範囲φ100mm 露光量:デジタルタイマによるロータリーソレノイド駆動

露光モード

ソフトコンタクト

解像度

3μm

アライメントスコープ

双対物顕微鏡 10倍対物レンズ2個 (N.A.=0.15,W.D.=30mm) 対物間隔15~75mm 総合倍率100倍

ウエハステージ

XYステージストローク±5mm θ回転ストローク±5° Z軸ストローク0~4mm

アライメント方式

ウェハステージ移動によるマニュアルアライメント

アライメント精度

±3μm

設置サイズ

735 (W) x490 (D) x605 (H) mm

設置重量

約90kg

ユーティリティ

電源AC100V/15A50/60Hz 真空 (圧力) 21.3kPa (大気より-80kPa)

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この製品について

■概要本製品は、省スペースで手軽に扱え、しかも高性能・低価格、大学・企業研究室用として最適なマスクアライナです.本製品の特徴は、このクラスとして初めて双対物顕微鏡、インテグレータレンズ (照明系) を採用し、精度の高いアライメントと、焼き付けが行うことができます。

■特徴・2視野顕微鏡の採用
・観察光源にLED採用
・インテグレータレンズの採用

■用途 (民間の研究所・大学研究室等のマイクロマシン研究開発用に) ・溶剤・新素材、アクチュエーター、圧力センサ、加速度センサ、パワーデバイス等
・フリップ・チップ/BGA/CSP用の加工に
・光通信/高速通信コンポーネントの加工に

型番
EMA-400

シリーズ
卓上型マスクアライナ EMA-400

取扱企業
ユニオン光学株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

FPD露光装置

半導体製造

露光装置

半導体製造

ステッパ

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卓上型マスクアライナ EMA-400 EMA-400の性能表

商品画像	価格 (税抜)	マスクサイズ	ウエハサイズ	露光照明	露光モード	解像度	アライメントスコープ	ウエハステージ	アライメント方式	アライメント精度	設置サイズ	設置重量	ユーティリティ
	要見積もり	□5インチ	φ4インチ	250W超高圧水銀灯光学方式インテグレータレンズ方式照度ムラ±5％以下照度20mW/cm2 (405nm) 有効露光範囲φ100mm 露光量:デジタルタイマによるロータリーソレノイド駆動	ソフトコンタクト	3μm	双対物顕微鏡 10倍対物レンズ2個 (N.A.=0.15,W.D.=30mm) 対物間隔15~75mm 総合倍率100倍	XYステージストローク±5mm θ回転ストローク±5° Z軸ストローク0~4mm	ウェハステージ移動によるマニュアルアライメント	±3μm	735 (W) x490 (D) x605 (H) mm	約90kg	電源AC100V/15A50/60Hz 真空 (圧力) 21.3kPa (大気より-80kPa)