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タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-進和工業株式会社

全型番で同じ値の指標

基板

ITO Glass + Photo-Resist (Photo-Spacer etc.)

基板寸法

□ 300 x 300 ~ 400 x 500 mm t = 0.3 ~ 3.0 mm

搬送方式

水平型 Roller 搬送式

処理速度

Standard 2.0 m /min. Variable 0.5 ~ 3.5 m / min.

装置構成

標準

処理面

上面

装置寸法

7,400L x 2,200W (*) x 1,200 H mm* 付帯設備を含む

給水

純水~ 20 LPM

冷却機構

排水

アルカリ~ 50LPM

排気

アルカリ~ 12,000LPM

圧縮空気

Clean Dry Air ~ 4,000 NLPM (* Using Air-Knife )

電源

3φ 200V Approx. 13 kVA (75A/75AF)

投入

生産管理機構はOption

水洗

循環水洗+純水洗

液切乾燥

Air-Knife

排出

生産管理機構はOption 基板整列機構

感光性レジスト現像

循環スプレ タンク容量 Max. 300L 処理温度 23 ℃ Chemicals : Alkaline Solution

薬液管理

オプション

この製品について

Glass 基板現像装置 抵抗膜式タッチパネル製造工程フローチャート

■上面 フィルム電極 Wet Etching 法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・銀回路印刷

■上面 フィルム電極 Laser Etching 法

・銀回路印刷 ・YAG レーザーパターニング

■裏面 Glass Wet Etching & Spacer 印刷法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・スペーサ印刷 ・銀回路印刷

■裏面 Glass Wet Etching + Photo-Spacer 法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・感光性樹脂塗布 ・パターン露光 ・Spacer現像 ・樹脂硬化 ・銀回路印刷

■静電容量式タッチパネル製造工程フローチャート

・ITO & MAM 成膜 ・塗布前洗浄 ・感光性Resist塗布 ・UV 露光 ・PR 現像 ・MAM Etching&PR Strip ・塗布前洗浄 ・感光性Resist塗布 ・UV 露光 ・PR 現像 ・ITO Etching&PR Strip

  • 型番

    SLD-400

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タッチパネル基板 製造装置 SLD-400 SLD-400の性能表

商品画像 価格 (税抜) 基板 基板寸法 搬送方式 処理速度 装置構成 処理面 装置寸法 給水 冷却機構 排水 排気 圧縮空気 電源 投入 水洗 液切乾燥 排出 感光性レジスト現像 薬液管理
タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-品番-SLD-400 要見積もり ITO Glass + Photo-Resist (Photo-Spacer etc.) □ 300 x 300 ~ 400 x 500 mm t = 0.3 ~ 3.0 mm 水平型 Roller 搬送式 Standard 2.0 m /min. Variable 0.5 ~ 3.5 m / min. 標準 上面 7,400L x 2,200W (*) x 1,200 H mm* 付帯設備を含む 純水~ 20 LPM アルカリ~ 50LPM アルカリ~ 12,000LPM Clean Dry Air ~ 4,000 NLPM (* Using Air-Knife ) 3φ 200V Approx. 13 kVA (75A/75AF) 生産管理機構はOption 循環水洗+純水洗 Air-Knife 生産管理機構はOption 基板整列機構 循環スプレ タンク容量 Max. 300L 処理温度 23 ℃ Chemicals : Alkaline Solution オプション

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使用用途

#半導体製造 #微細加工 #フォトリソグラフィ #研究開発 #MEMS #バイオテクノロジー #3次元露光 #水晶発振子製造 #タッチパネル #ディスプレイ

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