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基板
ITO Glass + Etching Resist (INK or Photoresist)
基板寸法
□ 300 x 300 ~ 400 x 500 mm t = 0.3 ~ 3.0 mm
搬送方式
水平型 Roller 搬送式
処理速度
Standard 1.5 m /min. Variable 0.5 ~ 3.5 m / min.
装置構成
標準
処理面
上面
装置寸法
12,200 L x 2,200 W (*) x 1,400 H mm* 付帯設備を含む
給水
純水水 ~ 50 LPM
冷却機構
有
排水
酸・アルカリ~ 50LPM
排気
酸・アルカリ~ 15,000LPM
圧縮空気
Clean Dry Air ~ 6,000 NLPM (* Using Air-Knife )
電源
3φ 200V Approx. 25 kVA (175A/250AF)
投入
生産管理機構はOption
ITO 蝕刻
循環スプレ タンク容量 Max. 200L 処理温度 Max. 45℃ Chemicals ： FeCl3+HCl or HCl+HNO3 etc.
水洗
循環水洗
レジスト剥離
循環スプレ タンク容量 Max. 200L 処理温度 Max. 40℃ Chemicals ： NaOH or KOH ~3%
液切乾燥
Air-Knife
排出
生産管理機構はOption
型番
SLES-400取扱企業
進和工業株式会社カテゴリ
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 基板 | 基板寸法 | 搬送方式 | 処理速度 | 装置構成 | 処理面 | 装置寸法 | 給水 | 冷却機構 | 排水 | 排気 | 圧縮空気 | 電源 | 投入 | ITO 蝕刻 | 水洗 | レジスト剥離 | 液切乾燥 | 排出 |
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要見積もり | ITO Glass + Etching Resist (INK or Photoresist) | □ 300 x 300 ~ 400 x 500 mm t = 0.3 ~ 3.0 mm | 水平型 Roller 搬送式 | Standard 1.5 m /min. Variable 0.5 ~ 3.5 m / min. | 標準 | 上面 | 12,200 L x 2,200 W (*) x 1,400 H mm* 付帯設備を含む | 純水水 ~ 50 LPM | 有 | 酸・アルカリ~ 50LPM | 酸・アルカリ~ 15,000LPM | Clean Dry Air ~ 6,000 NLPM (* Using Air-Knife ) | 3φ 200V Approx. 25 kVA (175A/250AF) | 生産管理機構はOption | 循環スプレ タンク容量 Max. 200L 処理温度 Max. 45℃ Chemicals ： FeCl3+HCl or HCl+HNO3 etc. | 循環水洗 | 循環スプレ タンク容量 Max. 200L 処理温度 Max. 40℃ Chemicals ： NaOH or KOH ~3% | Air-Knife | 生産管理機構はOption |
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