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温度範囲 ℃
100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,300 1,300 - 1,500 1,500 - 1,800昇温速度 ℃/sec
10 - 25 25 - 50 50 - 10014 点の製品がみつかりました
14 点の製品
アルバック販売株式会社
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■概要 CASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって急速加熱や急速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し...
アルバック販売株式会社
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1,800℃まで昇温可能な卓上型超高...
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■概要 小サンプルの研究開発に最適。高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。 自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロ...
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■概要 本装置は、試料寸法50mm角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm角までの加熱装置として、卓上型ラ...
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■概要 冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。 ■用途 ・ウ...
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■概要 1,800℃まで高速1分で昇温。コンパクトで1,800℃まで昇温可能な赤外線ゴールドイメージ炉です。ゾーンメルティングやSicパワーデバ...
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の...
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■概要 2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を...
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■概要 最大6インチまでのランプアニール装置。個別半導体プロセスのシリサイド形成や化合物半導体のプロセスアニールが可能です。 ■用...
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■概要 太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。VHCシリーズはQHCシリーズの機能に加えて真空排気系とピラニ真空計が搭載されてい...
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 熱処理目的に応じた加熱システム形成。本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び加熱システムが形成されま...
アルバック販売のアニール炉14製品中の注目ランキング
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