日本プラズマトリートのプラズマCVD装置

薄膜形成装置 プラズマCVD装置

神港精機株式会社

360人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

株式会社魁半導体

410人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返答時間: 120.00時間

独自のプラズマ制御方式 立体物用プラズマCVD装置

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

280人以上が見ています

返答時間: 185.30時間

ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

280人以上が見ています

返答時間: 24.82時間

ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

290人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返答時間: 24.82時間

プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

260人以上が見ています

返答時間: 24.82時間

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

320人以上が見ています

返答時間: 24.82時間

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

300人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

返答時間: 24.82時間

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

330人以上が見ています

返答時間: 24.82時間

熱+プラズマCVD装置

株式会社MPS

240人以上が見ています

返答時間: 57.55時間

高圧パルスプラズマCVD装置

株式会社MPS

220人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返答時間: 57.55時間

RFプラズマCVD装置

株式会社MPS

280人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返答時間: 57.55時間