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魁半導体の真空プラズマ装置

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12 点の製品

株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM

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評判の良い企業

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45.3時間 返答時間

SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステー...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ

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PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオ...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPEシリーズ

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最新の閲覧: 2時間前

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SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オー...


株式会社魁半導体

真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G

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様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。 ワンタッチの簡...


株式会社魁半導体

真空 卓上真空プラズマ装置 YHS-R

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コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。 ■製品の特徴 ...


株式会社魁半導体

真空 小型真空プラズマ装置 NMR-Gts

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最新の閲覧: 3時間前

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板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。 接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に (着床...


株式会社魁半導体

真空 プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

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テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・...

2種類の品番


株式会社魁半導体

粉体処理 小型回転式真空プラズマ装置 MUG-80

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■製品概要 ・真空チャンバー内に回転式の撹拌機構を導入 ・乾式で全面一括処理 ・グロー放電中で撹拌し、高い均一性を確保 ・回転式のた...


株式会社魁半導体

粉体処理 回転式卓上真空プラズマ装置 YHS-DφS

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粉体やチップコンデンサの処理に最適。 真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました。 ■製品概要 ・表面...


株式会社魁半導体

高周波電源 大容量真空プラズマ装置 SCBシリーズ

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■製品概要 ・多段式の電極で大量処理 ・電極構造を変えることで様々な容器に対応 ・ワンボタン操作も可能 ・生産用途に最適 ■オプショ...


株式会社魁半導体

高周波電源 真空プラズマ装置 US-80A

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一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能。 電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応。 ■用途 ・ボトル内面および...




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