Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ
タツモ株式会社
この製品について
■アプリケーション例
・フォトマスク検査前除電 ・ウェハ除電 (回路破損防止) ・ガラス表面有機物除去 (ドライクリーニング) ・コート前表面改質 (密着性向上) ・メッキ前表面改質 (微細メッキ浸透) ・電子基板の接合前処理 (密着性向上) ・エキシマランプとは エキシマランプとは、従来の放電灯 (水銀ランプやキセノンランプ等) と異なる発光原理、構造で、真空紫外光を照射できる光源です。エキシマランプでは従来の光洗浄改質で用いられてきた水銀ランプ (波長185nmと254nm) 比べるとフォトンエネルギーが高い、波長172nmの真空紫外光 (VUV) を発生します。瞬時の点灯消灯が可能で、アイドリングを必要としません。 ・ダメージレス表面処理 フォトンエネルギーの高い172nm (真空紫外線) により効率よく炭素結合を切断、活性酸素・オゾン生成を行うことでダメージを与えず表面処理を行えます。 ・高照度・高均一性 独自技術である面全面が発光する”フラットタイプ”によりワーク全面を一括照射できます。全面照射することで高照度で照射ムラのない均一な照射が可能となります。-
シリーズ
Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ
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取扱企業
タツモ株式会社
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カテゴリ
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Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 波長 | ユーティリティ | 分布 | 照射開口 | 対応ワークサイズ | 照度 (窓面最大) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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QEF-300SPC |
要見積もり | 172nm | N2/冷却水/AC100~240V | ±5% | φ332mm | 12inch | 80mW/cm² |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
