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Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ-QEF-300SPC
Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ-タツモ株式会社

Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ
タツモ株式会社

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この製品について

■アプリケーション例

・フォトマスク検査前除電 ・ウェハ除電 (回路破損防止) ・ガラス表面有機物除去 (ドライクリーニング) ・コート前表面改質 (密着性向上) ・メッキ前表面改質 (微細メッキ浸透) ・電子基板の接合前処理 (密着性向上) ・エキシマランプとは エキシマランプとは、従来の放電灯 (水銀ランプやキセノンランプ等) と異なる発光原理、構造で、真空紫外光を照射できる光源です。エキシマランプでは従来の光洗浄改質で用いられてきた水銀ランプ (波長185nmと254nm) 比べるとフォトンエネルギーが高い、波長172nmの真空紫外光 (VUV) を発生します。瞬時の点灯消灯が可能で、アイドリングを必要としません。 ・ダメージレス表面処理 フォトンエネルギーの高い172nm (真空紫外線) により効率よく炭素結合を切断、活性酸素・オゾン生成を行うことでダメージを与えず表面処理を行えます。 ・高照度・高均一性 独自技術である面全面が発光する”フラットタイプ”によりワーク全面を一括照射できます。全面照射することで高照度で照射ムラのない均一な照射が可能となります。

  • シリーズ

    Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ

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Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ-品番-QEF-300SPC

QEF-300SPC

要見積もり

172nm

N2/冷却水/AC100~240V

±5%

φ332mm

12inch

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タツモ株式会社

会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県

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