クリーン搬送システム プリアライナー 化合物・ガラス対応 裏面吸着式 MAF-RAシリーズ-MAF-RAPN
クリーン搬送システム プリアライナー 化合物・ガラス対応 裏面吸着式 MAF-RAシリーズ-タツモ株式会社

クリーン搬送システム プリアライナー 化合物・ガラス対応 裏面吸着式 MAF-RAシリーズ
タツモ株式会社



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この製品について

本製品は非接触にて、ウェーハのオリフラ合わせセンターリングを高速で行うユニットです。

■製品特徴

・ウェーハセンタリング、角度合わせを持ち替えなしで行える為、高速処理を行ないます。 ・Φ200mm~Φ300mmのSEMI/JEIDAシリコンウェーハにマルチ対応可能です。 ・ウェーハサイズ及びノッチ・オリフラの種別を自動認識するため、上位コントローラからの設定が不要です。 ・コントローラを内蔵したコンパクトなデザインに仕上がっています。 ・RS-232Cもしくは、RS-485によるシリアル通信または、フォトI/Oによるパラレル通信で制御可能です。 ・ラインセンサーにCCD方式の受光部素子を利用し、透明ガラス、化合物半導体のアライメントを実現しています。

  • シリーズ

    クリーン搬送システム プリアライナー 化合物・ガラス対応 裏面吸着式 MAF-RAシリーズ

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クリーン搬送システム プリアライナー 化合物・ガラス対応 裏面吸着式 MAF-RAシリーズ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 適用ワーク 処理時間 処理精度 処理可能範囲 ウェーハ保持方法 ウェーハ保持確認 通信仕様 ユーティリティ 質量
クリーン搬送システム プリアライナー 化合物・ガラス対応 裏面吸着式 MAF-RAシリーズ-品番-MAF-RAPN

MAF-RAPN

要見積もり Φ200mm~Φ300mmSEMI/JEIDA規格ウェーハガラスウェーハなどの特殊品は御相談下さい。 4.5秒以内 (300mmを処理時) XY : ±0.1mm以内 (3g) 8:±0.1°以内 (30) 5mm以内 (ウェーハ中心ズレ) 真空吸着 デジタル表示付き真空センサー RS-232C,RS-485 (シリアル通信) フォトI/O (パラレル通信) 電源:DC24V±10% 5A 1系統真空: -80kPa以下 1系統 本体:約12kg

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県
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