ケミカルポリッシング装置 CP4000
ハイソル株式会社
この製品について
■製品の特長
CP3000/4000は結晶構造に対する表面、表面下のダメージを最小限に抑えながら臭素メタノールや酸でポリッシングすることが出来ます。CP3000は既存のドラフトチャンバーに収まる小型の装置です。CP4000はドラフトと一体型になっており、より安全に運用することが可能です。 ・化合物半導体の表面仕上げに最適 ・最大8インチウエハーに対応 ・酸に耐えれる耐腐食性構造■アプリケーション
CP3000/4000は結晶構造に対する表面、表面下のダメージを最小限に抑えながら臭素メタノールや酸でポリッシングすることが出来ます。CP3000は既存のドラフトチャンバーに収まる小型の装置です。CP4000はドラフトと一体型になっており、より安全に運用することが可能です。 ・水銀カドミウムテルル (HgCdTe) ・テルル化カドミウム (CdTe) ・リン化インジウム (InP) ・硫化カドミウム (CdS) ・ガリウムヒ素 (GaAs) ・その他、Ⅱ-Ⅵ、Ⅲ-Ⅴ族半導体-
シリーズ
ケミカルポリッシング装置 CP4000
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取扱企業
ハイソル株式会社
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カテゴリ
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ケミカルポリッシング装置 CP4000 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 電源 | 高さ | 幅 | 奥行 | プレート回転速度 | 対応サンプルサイズ | 重量 |
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CP4000 |
要見積もり | 110V (50/60Hz) | 1,040mm | 1,270mm | 760mm | 0–70rpm | 3, 4, 6, 8インチ | 145kg |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
