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真空ランプアニール装置 (RTP・RTA) AccuThermo AW820V取扱企業
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 対応基板サイズ | 到達真空度 | 真空度調圧範囲 (オプション) | 温度制御範囲 | 加熱方式 | 冷却方式 | 加熱方向 | 温度制御方式 | 昇温速度 | 降温速度 | 温度測定精度 | 面内温度均一性 | ランプゾーン数 | 試料ローディング方式 | プロセス処理室、試料搭載部 | チャンバー冷却方式 | プロセスガス種 | プロセスガス系統数 | プロセスガス流量制御範囲 | 登録レシピ数 | レシピ当たりのステップ数 | プロセス制御方式 | ソフトウェアの主な機能 | 安全対策 | 外形寸法・重量 | タイプ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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AW820V |
要見積もり |
[標準] φ5インチ ~ φ8インチ |
0.01Pa |
6.7Pa~1733Pa，大気圧 |
100℃~1,250℃ |
赤外線ランプ放射加熱 (1.5kW×27本,Top 13、Bottom 14) |
ガスパージによる強制空冷 |
上下面2方向 |
検出温度フィードバックによるクローズドループ制御 |
10℃/sec~100℃/sec |
10℃/sec~100℃/sec |
±1℃ (校正後) |
ΔT 10℃ |
10ゾーン独立制御 |
フロントローディング (手動) |
上下面石英ウィンドウ付 アルミニウムチャンバー、石英トレイ |
空冷・水冷併用 |
N2、O2、He、Ar、フォーミングガス (水素濃度5％程度) |
[標準] 1系統 (N2) |
[標準] 0.2slpm~10slpm (MFCによる制御) |
制限なし |
最大40ステップ |
装置組み込みコンピューターボード、RTAProソフトウェア、17インチタッチスクリーン、キーボード、マウス |
・リアルタイムプロセスモニタ |
非常停止SW、過昇温検出、冷却水監視、ドア開閉監視、ウォッチドッグタイマー etc. |
W978×D1,220×H1,780 mm・460kg |
8インチ対応 |
