ホログラフィック・グレーティング
オプトテック株式会社

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この製品について

LigthSmyth社透過グレーティングは、Phtolithography & Reactive Ion EtchによってFused Silica基板上に製作されます。このPhtolithographyは半導体露光装置と同様の手法であり、高度な精密加工が必要となるグレーティングの製造を可能としています。高精度加工により、高効率回折・高透過率・高損傷閾値を実現しています。また、リーズナブルな価格となっています。

■取扱製品透過型グレーティング