Xe プラズマ FIB-SEMシステム【SOLARIS X】-SOLARIS X

Xe プラズマ FIB-SEMシステム【SOLARIS X】
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この製品について

■概要TESCAN社の最新鋭SOLARIS Xは、従来のGa FIB-SEMシステムでは困難だった材料解析のために製品化されたプラズマFIBと、イマージョン光学系を装備した超高分解能FE-SEMが一体となった分析システムです。

TSV (シリコン貫通電極) 、MEMS、はんだバンプ、Cu ピラー、BGA の全体構造といった広いスケールの構造をもつ材料や深く埋もれた構造をもつ材料に対して、大面積の加工を高速で行うことが可能になることに加えて、クラス最高の低加速SEM観察能力により高い精度での物理解析が実現します。また、ToF-SIMS、ラマンといった分析技術とのマルチモーダルイメージングが可能です。

■特長・最大1mm幅のFIB断面加工を高速で実現した最新型FIB-SEM
・Gaフリーでの微小試料作成
・カーテニング等のアーティファクトを抑制するRocking Stageなど、TESCAN社独自技術を複数搭載
・イマージョン光学系を装備した超高分解能SEM
・インカラム検出器による二次電子/反射電子検出
・TESCAN社の特許技術Static 3D-EBSDによる3次元の組織解析
・FIBを一次イオン源としたToF-SIMSを搭載可能
・共焦点ラマン顕微鏡との融合が可能

■加工面積 (時間) XeプラズマFIBは、Ga FIBに比較して50倍以上のミリングレートを実現します。従来数10μmと限定されていた加工範囲が100μmを上回り、最大1mmの加工が実現しました。またTESCAN社の独自技術であるフィールドフリーUHR SEMカラムの搭載により、大容量3次元トモグラフィー像が高い空間分解能で取得可能です。

■微小試料作成および化学分析時におけるコンタミネーションXeイオンは化学的・電気的に不活性であるため、イオン入射による金属化合物の形成/偏析や汚染が起こりません。従って材料が持つ物理特性の変化や、SEM-EDSやFIB-SIMSにおける化学分析時のスペクトル干渉についての考慮が不要となります。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
Xe プラズマ FIB-SEMシステム【SOLARIS X】

取扱企業
株式会社東陽テクニカ

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加工・工作機器

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Xe プラズマ FIB-SEMシステム【SOLARIS X】品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	電子銃	SEMカラム	電子光学系分解能	最大観察視野	電子光学系加速電圧	最大プローブ電流	FIBカラム	イオン銃	イオン光学系分解能	イオン光学系加速電圧	プローブ電流	SEM-FIB コインシデンス
	SOLARIS X	要見積もり	高輝度ショットキーエミッタ	トリプル対物レンズ搭載TriglavTMカラム	標準モード 0.6nm at 15kV 1.2nm at 1kV ビーム減速モード 0.9nm at 1kV STEM 0.5nm at 30kV	10mm at Max WD	50V~30kV	400nA	i-FIB+	Xe プラズマ FIB (ECRタイプ)	<12nm at 30kV	3kV~30kV	1pA~3μA	WDSEM=5mm