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露光装置 Dilase125-Dilase125
露光装置 Dilase125-ビーム株式会社

露光装置 Dilase125
ビーム株式会社



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この製品について

レーザー直描露光装置Dilase250は、Dilaseシリーズのエントリーモデルとして開発されたコンパクトな卓上型レーザー直描露光装置です。375nmまたは405nmのUVレーザーを搭載し、4インチまでの基板サイズに対応します。2μmの最小スポット径と50mm/sのスキャン速度で微細なパターン露光を行う事ができます。

■用途:

バイオテクノロジー,フォトリソグラフィー,半導体

  • シリーズ

    露光装置 Dilase125

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露光装置 Dilase125 品番1件

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Dilase125

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使用用途

#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折

露光方式

ステッパ型 スキャナ型 フラッシュ型 ダイレクト描画型

光源種類

紫外光型 エキシマレーザー型

対応基板サイズ

6インチ対応型 8インチ対応型 12インチ対応型

精度制御方式

光学制御型 ステージ制御型

光源波長 nm

300 - 400 400 - 500 500 - 600

最小露光線幅 μm

0 - 10 10 - 20

ワークサイズ mm

0 - 100 100 - 200 200 - 300

露光領域 mm

0 - 50 50 - 100 100 - 150

ステージ

手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ

重量 kg

0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ビーム株式会社は、1996年に設立された、レーザー微細加工装置の輸入販売を行う企業です。 指向性と収束性に優れた、単一波長の電磁波である「レーザー」による、発振器や微細加工装置の輸入販売と保守業務を行っています。精密切...

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  • 本社所在地: 東京都
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