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シリーズ
マスクアライナー露光装置 UV KUB 3取扱企業
ビーム株式会社カテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 最小露光寸法 | 波長 | アライメント解像度 | 照度 | 熱影響温度 | 連続照射時間 | サイクル記録数 | タッチパネルサイズ | 本体サイズ | 装置重量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
UV KUB 3 |
要見積もり |
2μm |
365nm |
5μm |
30mW/cm2±10% |
<1° |
1秒~18時間 |
10 |
15.6インチ (39.6cm) |
480 x 480 x 480mm |
55kg |
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半導体露光装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折露光方式
ステッパ型 スキャナ型 フラッシュ型 ダイレクト描画型光源種類
紫外光型 エキシマレーザー型対応基板サイズ
6インチ対応型 8インチ対応型 12インチ対応型精度制御方式
光学制御型 ステージ制御型光源波長 nm
300 - 400 400 - 500 500 - 600最小露光線幅 μm
0 - 10 10 - 20ワークサイズ mm
0 - 100 100 - 200 200 - 300露光領域 mm
0 - 50 50 - 100 100 - 150ステージ
手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ重量 kg
0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300
