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シリーズ
超小型LED露光装置 UV KUB 2取扱企業
ビーム株式会社カテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 露光波長 | 照度 | 熱影響温度 | 連続照射時間 | サイクル記録回数 | サイズ | 重さ | 試料厚み (前面照射時) | 試料厚み (マスク照射時) | 発散角 | マスクサイズ (マスクホルダー使用時) | 試料サイズ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
UV KUB 2 |
要見積もり |
365±5nm/405±5nm |
40mW/cm² ±10% |
1℃以下 |
18時間 |
10 |
260 x 260 x 260mm |
8.2 kg |
ウエハ+レジストの最大厚み 11mmまで |
ウエハ+レジストの最大厚み 2mmまで |
2°以下 |
125~127.3mm |
100 x 100 mmまで |
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半導体露光装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折露光方式
ステッパ型 スキャナ型 フラッシュ型 ダイレクト描画型光源種類
紫外光型 エキシマレーザー型対応基板サイズ
6インチ対応型 8インチ対応型 12インチ対応型精度制御方式
光学制御型 ステージ制御型光源波長 nm
300 - 400 400 - 500 500 - 600最小露光線幅 μm
0 - 10 10 - 20ワークサイズ mm
0 - 100 100 - 200 200 - 300露光領域 mm
0 - 50 50 - 100 100 - 150ステージ
手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ重量 kg
0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300
