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微細加工向け 高出力ナノ秒レーザー DXシリーズ|355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー-355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー
微細加工向け 高出力ナノ秒レーザー DXシリーズ|355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー-株式会社日本レーザー

微細加工向け 高出力ナノ秒レーザー DXシリーズ|355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー
株式会社日本レーザー

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この製品について

新商品 DX & DCシリーズは、高信頼・高効率のコンパクトなレーザーです。高ビーム品質 (M2 <1.2) 、優れたビーム位置安定性、パルス間の高い安定性を誇り、切断、スクライビング、レーザーマーキングなどのレーザー微細加工に最適な高性能レーザーソリューションを提供します。

■特徴

・出力パワー:最大80W @ 100 kHz < 25ns ・高いパルスエネルギー:1 mJ ・堅牢でコンパクトなオールインワン設計 ・イントラキャビティー採用 ※DXシリーズには完全空冷モデルもございます。

■応用例

・半導体ウェハーのマーキングおよびダイシング ・太陽電池 (シリコン/PERC) およびPCBの切断・ドリル加工 ・ガラス、セラミック、サファイアの加工・マーキング ・表面クリーニング・アブレーション・テクスチャリング ・マイクロエレクトロニクスおよびフレキシブル基板の微細加工 ・ディスプレイリペア (LCD/LED/OLED) およびLACVD処理 ・3Dプリンティング (SLA/UV方式) および高速試作 ・精密層除去および電極構造加工 (積層造形対応) ・ダイヤモンド加工およびレーザー溶接・マーキング ・バイオマテリアルのパターニングおよびレーザートリミング

  • シリーズ

    微細加工向け 高出力ナノ秒レーザー DXシリーズ|355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー

企業レビュー

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2025年3月27日にレビュー

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微細加工向け 高出力ナノ秒レーザー DXシリーズ|355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
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355 nm / 532 nm ロングパルス・短パルスモデル 高出力ナノ秒レーザー

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使用用途

#医療機器 #通信機器 #顕微鏡装置 #検査装置 #プロジェクタ機器 #センサ機器 #光学実験 #材料分析 #バイオ分析 #表面処理 #微細加工

発振媒体

固体レーザー 気体レーザー 半導体レーザー

波長範囲

紫外レーザー 可視レーザー 近赤外レーザー 中赤外レーザー

動作方式

連続波型 パルス波型 モード同期型 Qスイッチ型

冷却方法

空冷型 水冷型

波長 nm

100 - 200 200 - 400 400 - 500 500 - 700 700 - 1,100 1,100 - 2,200 2,200 - 4,500 4,500 - 11,000

レーザー出力 mW

0 - 1 1 - 10 10 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 10,000 10,000 - 100,000 100,000 - 1,000,000 1,000,000 - 10,000,000

レーザークラス

クラス2 クラス2M クラス1M クラス3R クラス3B クラス4

動作温度範囲 ℃

-20 - -10 -10 - 0 0 - 10 10 - 30 30 - 40 40 - 50 50 - 60

連続動作時間 時間

1 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 70 70 - 110

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社日本レーザーは、レーザーおよび光関連製品を取り扱う、レーザー専門商社です。
1968年設立、1971年に日本電子株式会社の100%出資子会社となった後、2007年には日本初のMEBOで完全独立いたしました...

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  • 本社所在地: 東京都
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