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ラジカル窒化装置-JRN-4040VS
ラジカル窒化装置-日本電子工業株式会社

ラジカル窒化装置
日本電子工業株式会社



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この製品について

ラジカル窒化装置は、炉体 (耐真空・耐熱容器) 、電気ヒーター、真空排気装置、ガス供給装置、プラズマおよびヒーター電源、操作制御装置そして排ガス処理装置から構成されます。 すべての操作は、あらかじめ設定されたプログラムに従って全自動運転で進められます。また、運転中の異常発生時には、状況に応じた速やかな対応が行われます。

■ラジカル窒化装置の特長

・特長1 加熱にガスイオンを用いないため、放電の局部的な集中や昇温途中のアーク放電などに対する対策が容易です。 ・特長2 電気ヒーターによる均一的な加熱により処理時の温度分布が良く均一な処理温度が容易に得られます。 ・特長3 鋼種ごとに最適な窒化条件を精度よく設定することで品質の高い窒化処理を可能にします。化合物層を生成する窒化処理も可能です。 (但し、プラズマ窒化処理と同じ仕上がりとなります)

  • シリーズ

    ラジカル窒化装置

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ラジカル窒化装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 有効寸法[mm] (φ×H) 処理量[kg] 処理温度[℃] ヒーター出力[kW] 受電容量[kVA]
ラジカル窒化装置-品番-JRN-4040VS

JRN-4040VS

要見積もり

400×400

50

450~550

18

42

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プラズマ処理装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#インク密着向上 #パッケージング処理 #フィルム処理 #医療機器加工 #研究開発 #樹脂表面改質 #接着強化処理 #電子部品製造 #薄膜形成前処理 #半導体製造

プラズマ励起方式

直流放電型 高周波放電型 マイクロ波放電型 表面波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 同軸円筒型 分離チャンバー型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 ロールツーロール インライン式 回転テーブル式

圧力領域

大気圧型 低圧型

マイクロ波出力 W

0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,500

装置形式

卓上型装置 19"筐体

電源容量 kVA

0 - 1 1 - 2 2 - 3

処理面

1 2

電源 V

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

日本電子工業株式会社は、1957年に設立された表面処理加工メーカーです。 急加熱・急冷却により焼入れ硬化させる高周波焼入れや耐久性・加工性能向上のためのセラミックコーティングなどの表面加工のほか、短時間の表面焼入れがで...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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