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真空浸炭装置 量産型真空浸炭装置 (V-Cell)-V-Cell
真空浸炭装置 量産型真空浸炭装置 (V-Cell)-株式会社IHI機械システム

真空浸炭装置 量産型真空浸炭装置 (V-Cell)
株式会社IHI機械システム



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この製品について

■概要

ガス浸炭にはできない高品質なアセチレンによる真空浸炭。大幅な生産性アップを実現。ガス浸炭比75%アップ。

■用途

浸炭処理、油焼入れ 真空浸炭のメリット

■品質

・高濃度浸炭が容易 ・粒界酸化がない ・細穴内面浸炭が容易 ・ステンレス鋼の浸炭が可能

■コスト

・高温短時間処理による生産性向上 (~1,100℃) ・間欠運転可能 ・真空断熱のよる省エネルギー

■環境

・CO2の発生がゼロ ・作業環境が良好

■安全性

真空かつ火を使用しないため安全

■作業性

・条件管理が非常に容易 (温度と時間のセットのみ) ・熟練者は特に必要としない

■特長

・浸炭焼入れ品質を第一に考えた装置構成でメンテナンス性の良い装置 ・連続的な真空浸炭処理が可能で、生産性向上のニーズにお応えします。

■製品構成

・浸炭室:6室 (追加可能) ・油冷搬送室:1室 ・搬入出機構:1式 ・前後脱脂洗浄設備、焼戻し炉と組み合わせ、真空浸炭ラインとして構築可能

  • シリーズ

    真空浸炭装置 量産型真空浸炭装置 (V-Cell)

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真空浸炭装置 量産型真空浸炭装置 (V-Cell) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 炉内有効寸法 (mm) 巾×高さ×奥行 処理量 (kg)
真空浸炭装置 量産型真空浸炭装置 (V-Cell)-品番-V-Cell

V-Cell

要見積もり

660×750×1,200
※高さはトレーを含みます

650

フィルターから探す

真空炉をフィルターから探すことができます

使用用途

#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡

加熱方式

抵抗加熱型 高周波加熱型 輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

構造形式

横型炉 縦型炉 チャンバ型 バッチ型

真空到達度

低真空型 中真空型 高真空型

特殊機能

ガス置換型 急速昇降温型

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社IHI機械システムは、真空熱処理炉・新素材製造設備の製造販売、真空浸炭装置の製造販売、圧力容器、その他産業機械の製造販売、各種真空熱処理の製造販売などを主な事業内容とする企業です。 真空熱処理炉などの製造販売の...

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  • 本社所在地: 東京都
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