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SiC GaN ウエハ フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PL-Celero PL
SiC GaN ウエハ フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PL-株式会社日本レーザー

SiC GaN ウエハ フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PL
株式会社日本レーザー

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この製品について

■SiC GaN フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PLとは

Celero PLシリーズはフォトルミネッセンス (PL) マッピングに対応した、炭化ケイ素 (SiC) および窒化ガリウム (GaN) ベースのウエハと化合物半導体材料の表面下欠陥検査および分類機能のニーズを満たすように設計されています。様々なウエハハンドリングオプションをご用意しており、クラス最高のスループットと感度を提供しながら、1パスあたりでのコストを最小限に抑え、研究開発および大量生産の両方のニーズにお応えします。

■フォトルミネッセンス (PL) マッピングとは

フォトルミネッセンス (PL) マッピングは、急速に成長する化合物半導体の市場セグメントで使用される主要な歩留まり予測指標です。これは主にバルクおよびエピタキシャル層の表面下欠陥を対象とした欠陥検査技術です。本技術は、OEMで装置に搭載されたり、またウエハレベルの結晶欠陥を研究するR&Dラボでも使用されています。

■SiC GaN フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PLの特長と利点

・対応ウェハサイズ 100-300mm ・5つの検出チャンネル:フォトルミネッセンス、偏光、スロープ、BF (明視野) 、DF (暗視野) ・サブナノメーター感度の全表面スキャン (FS/BS/Edge) とイメージング ・粒子欠陥 (≥90nm PSL) / 表面汚染 (≥5Å) ・SiCウエハ:パーティクル / ステイン / スクラッチ / ピット / 積層欠陥 / KOH ・SiCエピ:キャロット / トライアングル / 基底面転位 / ピット / ボイド ・基板-エピタキシャル層欠陥マッピング (サブ欠陥マッピング) ・薄いウエハ (≥100μm) および厚ウェーハ (≤10mm) ・最小限のウエハエッジコンタクトによる非スピニング ・複数のハンドリングオプション:ウエハ、フィルムフレーム ・複数のロードオプション:手動、自動オープンカセット、EFEM ・オンラインおよびオフラインレビュー機能 ・自動画像欠陥分類

  • シリーズ

    SiC GaN ウエハ フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PL

企業レビュー 5.0

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2025年3月27日にレビュー済み

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早速のWeb会議開催のご案内を頂き、迅速な対応であった。

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SiC GaN ウエハ フォトルミネセンス マッピング対応 高速レーザー欠陥スキャナー Celero PL 品番1件

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Celero PL

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光学分解能 μm

2 - 5 5 - 10 10 - 15 15 - 20 20 - 25

基板厚み mm

0 - 1 1 - 2 2 - 3 3 - 4 4 - 5 5 - 6 6 - 7 7 - 8

カメラ画素数 画素

7,000 - 16,000 16,000 - 17,000

ワーク搬送方式

手動 自動 手動/自動 ロール

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社日本レーザーは、レーザーおよび光関連製品を取り扱う、レーザー専門商社です。
1968年設立、1971年に日本電子株式会社の100%出資子会社となった後、2007年には日本初のMEBOで完全独立いたしました...

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  • 本社所在地: 東京都
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