低圧プラズマシステムバッチ型システム
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この製品について

＜低圧プラズマシステム V10-G＞
フォトレジスト除去のための高性能バッチ型システムです。
バッチ型システム V10-G は、フォトレジストの除去のために考案されたシステムです。また、ウェハー洗浄にも適しています。

◆適用範囲
・RIE やイオン ビーム エッチング等の乾燥プロセス後、および高用量インプラント後のフォトレジスト(および SU-8)の除去に適しています。
・ウェットプロセス前のシリコンウェハーおよび他のサブストレートの処理
・MEMS およびナノテクノロジープロセスへの使用可能
・ボッシュプロセス後の余剰ポリマーの除去
・有機犠牲層の除去
・生理活性物質のコンディショニング

◆ピンク社はすべての主力市場において、それぞれの分野の代理店販売網を世界的に展開し、カスタマイズ装置と機器を供給する世界的メーカーです。
高品質で、革新的な製品は世界の有名な技術研究企業の厚い信頼を得ています。
ピンク社は様々な機器構成で、あらゆるサイズに対応できる高品質なカスタマイズ真空プラズマ装置を提供できる最適なパートナーです。
また、ピンク社は独立型装置、テープ、ロール機およびインライン型装置を提供しています。

◆低圧プラズマとは？

第4の状態の優しい力

物質は温度によりその状態を変化させます。一般的に知られている物質の凝集状態は、固体、液体、気体です。しかし、これらに続く状態が存在します。それがプラズマです。プラズマは、気体がイオン化された状態であり「第4 の状態」とも言われています。ガスとプラズマの違いは 高い電気伝導率と化学反応性です。

◆熱を発生しないエネルギー

大気圧においてはプラズマは高熱を発します。例えば、炎やアーク放電等です。気圧を例えば 100 Pa に下げると、低温でプラズマを発生させることができます。いわゆる非熱プラズマです。

低圧プラズマ処理では、ガスの温度が低いため、加工する素材への加熱はごくわずかに抑えられます。しかしながら、その状態にて数百万度の温度に相当する電子エネルギーが発生します。つまり、低圧プラズマにより、プラスチックや温度に敏感な素材のプラズマによる処理が可能になったのです。