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回転真空加熱装置-回転真空加熱装置
回転真空加熱装置-ヒメジ理化株式会社

回転真空加熱装置
ヒメジ理化株式会社



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この製品について

■仕様

回転真空加熱装置は雰囲気を低真空 (1Pa程度) にでき上部のハロゲンヒーターにてワークを加熱する製品となります。テーブル (φ96,SUS) が回転することで均一な加熱が可能になります。テーブルには石英やカーボン受け皿を設置できます。 特⾧は上部のハロゲンヒーターが可動式でワークまでの距離を調整可能。さらに石英チャンバー外面に金コートを採用することで点灯中のワークの状態が確認できます。又、チャンバー上部の蓋は水冷構造になっており、定格加熱中で表面温度は50℃程度になっております。当社にて試験機器として保有しております。

  • シリーズ

    回転真空加熱装置

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回転真空加熱装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 炉本体/電気容量 炉本体/加熱温度 炉本体/方式 炉本体/雰囲気 炉本体/筐 体 炉本体/炉サイズ 炉本体/チャンバー 制御操作部/制御盤位置 制御操作部/温度調整器 制御操作部/温度センサー 制御操作部/安全装置 付帯機構
回転真空加熱装置-品番-回転真空加熱装置

回転真空加熱装置

要見積もり

単相 50V-500W 2本

常温~ (600℃)

光加熱 (ハロゲンヒーター)

大気・真空 (石英チャンバー内)

石英チャンバー、SUS (水冷構造)

φ200xH270

石英ガラス

架台の正面部

デジタル設定、PID制御

Kタイプ熱電対 (放射温度計取付可能)

過電流・漏電ブレーカー

キャスター、アジャスター

フィルターから探す

真空炉をフィルターから探すことができます

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

消費電力 KW

0 - 20 20 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 250 250 - 300

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

加熱方式

輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

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