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フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D-LW405D
フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D-株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D
株式会社エイチ・ティー・エル



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この製品について

Microtechは幅広い用途に対応した柔軟性の高い構成を可能にする装置をお届けします。LW405Dマスク描画装置は複数の露光波長を選択構成可能で、基板のサイズや材質、描画方式等も柔軟に構成可能です。

■特長

・3波長 (最大) 選択、切替可能な光源 (405nmを含む) ・6つの描画モード (最大) を構成可能 ・描画レゾリューション: 0.7μm~8μm, 対物レンズ倍率に依存 ・描画速度: 30~120 mm²/min @4μm 解像度時

  • シリーズ

    フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D

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フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D 品番1件

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フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D-品番-LW405D

LW405D

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使用用途: フォトマスク

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半導体露光装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折

光源波長 nm

300 - 400 400 - 500 500 - 600

最小露光線幅 μm

0 - 10 10 - 20 20 - 40

ワークサイズ mm

0 - 100 100 - 200 200 - 300

露光領域 mm

0 - 50 50 - 100 100 - 150

ステージ

手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ

重量 kg

0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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  • 本社所在地: 東京都

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