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フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkSHR-StarkSHR
フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkSHR-株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkSHR
株式会社エイチ・ティー・エル



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この製品について

V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSIマスク汎用描画装置です。多くの描画装置製造の実績をベースに、LSIマスクを高精度で効率良く描画可能な装置として開発中です。近日中にリリース予定です。描画速度は200mm2/min. 以上、CDUは10nm以下、位置精度は20nm以下を目標に設計しています。

■描画性能

・最小寸法:500nm ・最小アドレスグリッド:1nm ・ラインエッジラフネス:< 10nm, 3σ ・位置精度:< 20nm ・CD 均一性:< 10nm, 3σ ・2層目アライメント精度:< 20nm, 3σ ・描画速度:> 200²/min

■システム構成

・マスクサイズ:6inch or 9inch ・最大描画エリア:230mm ・光源:3 75nm Laser ・ステージ:6 axis correct ・チャンバー:30 mK control ・光学系:NA0.9, FOV1.0mm dia. ・SLMサイズ:W QXGA DMD ・オートフォーカス:coaxial optics ・描画モード:Step & Repeat, scan, render (SR+scan) ・ホスト通信:SECS/GEM (option) ・DMD 欠陥検出:〇 ・露光量モニタ装備

■寸法

W1,800mm x D3,400mm x H2,100mm

■重量

3,500kg

  • シリーズ

    フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkSHR

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フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkSHR 品番1件

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StarkSHR

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光源波長 nm

300 - 400 400 - 500 500 - 600

最小露光線幅 μm

0 - 10 10 - 20 20 - 40

ワークサイズ mm

0 - 100 100 - 200 200 - 300

露光領域 mm

0 - 50 50 - 100 100 - 150

ステージ

手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ

重量 kg

0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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  • 本社所在地: 東京都
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