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フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkR6-StarkR6
フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkR6-株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkR6
株式会社エイチ・ティー・エル

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この製品について

V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSI 2層目専用のマスク描画装置です。高精度・高信頼性の本装置は、効率良く低コストでマスクの生産を可能にします。描画速度は300mm2/分以上で、大手マスクショップを中心に10台近くが既に稼働中です。

■描画性能

・最小寸法：1000nm ・最小アドレスグリッド：25nm ・ラインエッジラフネス：< 50nm, 3σ ・位置精度：< 100nm ・CD 均一性：< 70nm, 3σ ・2層目アライメント精度：< 100nm, 3σ ・描画速度：> 300²/min

■システム構成

・マスクサイズ：6inch ・最大描画エリア：150mm ・光源：405nm LED ・ステージ：3 axis ・チャンバー：50 mk control ・光学系：NA0.35, FOV1.2mm dia. ・SLMサイズ：XGA DMD ・オートフォーカス：Coaxial optical real time ・描画モード：Step & Repeat, scan, render (SR+scan) ・ホスト通信：SECS/GEM (option) ・DMD 欠陥検出：〇 ・欠陥修正モード：Optional

■寸法

・W2,360mm x D2,700mm x H2,100mm (main unit) ・W1,400mm x D750mm x H2,380mm (ECU unit)

■重量

・2,900kg (main unit) ・500kg (ECU unit)

  • シリーズ

    フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkR6

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使用用途

#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折

光源波長 nm

300 - 400 400 - 500 500 - 600

最小露光線幅 μm

0 - 10 10 - 20

ワークサイズ mm

0 - 100 100 - 200 200 - 300

露光領域 mm

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ステージ

手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ

重量 kg

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会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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