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フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416-Pegasus1416
フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416-株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416
株式会社エイチ・ティー・エル



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この製品について

ブイ・テクノロジー社のレーザーマスク描画装置です。LCD TFT、OLED 等の大型マスクをマルチヘッドのパラレル露光により、高速・高精度描画を可能にしました。

■特長

・最大 1400 x 1600mm サイズのマスクを描画可能 ・マルチヘッド及び高度な描画方式による高速描画 ・従来比 約2倍の描画速度 ・高精度描画でムラ問題を解消

  • シリーズ

    フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416

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フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 描画速度 最小線幅 (L/S) アドレスグリッド CD 均一性 CD 直線性 レジストレーション
フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416-品番-Pegasus1416

Pegasus1416

要見積もり

13 mm/s (2,412 mm2/min., Target)

750 nm

1 nm (CAD 設計グリッド)

60 nm

50 nm

90 nm (Target)

フィルターから探す

半導体露光装置をフィルターから探すことができます

光源波長 nm

300 - 400 400 - 500 500 - 600

最小露光線幅 μm

0 - 10 10 - 20 20 - 40

ワークサイズ mm

0 - 100 100 - 200 200 - 300

露光領域 mm

0 - 50 50 - 100 100 - 150

ステージ

手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ

重量 kg

0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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  • 本社所在地: 東京都
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