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マイクロ波加熱装置 マイクロ波真空乾燥機 HMD02-01-HMD02-01
マイクロ波加熱装置 マイクロ波真空乾燥機 HMD02-01-朝日テクノス株式会社

マイクロ波加熱装置 マイクロ波真空乾燥機 HMD02-01
朝日テクノス株式会社

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この製品について

■概要

・低温 (約35℃) で水分を沸騰させ蒸気にして排出し乾燥させます。 ・低温で乾燥させるため、温度による素材変性がありません。

■本装置を使用して特に効果が期待できる生産品

・残飯の飼料化 ・野菜・海藻・魚介類などの乾燥

  • シリーズ

    マイクロ波加熱装置 マイクロ波真空乾燥機 HMD02-01

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マイクロ波加熱装置 マイクロ波真空乾燥機 HMD02-01 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
マイクロ波加熱装置 マイクロ波真空乾燥機 HMD02-01-品番-HMD02-01

HMD02-01

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使用用途

#セラミック焼結 #医薬品製造 #化学合成 #金属加熱処理 #研究開発 #材料乾燥 #樹脂加熱 #焼成処理 #食品加熱 #薄膜形成

マイクロ波出力 W

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 3,000 3,000 - 10,000 10,000 - 130,000

発振周波数 MHz

2,400 - 2,430 2,430 - 2,460 2,460 - 2,490 2,490 - 2,520

出力電力定格 W

0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 3,000 3,000 - 6,000 6,000 - 120,000

温度制御範囲 ℃

-50 - 0 0 - 100 100 - 300 300 - 400

容器容量 ml

0 - 50 50 - 100

圧力制御範囲 MPa

0 - 3 3 - 10 10 - 15

冷却方式

強制空冷 空冷 水冷

入力電源 V

90 - 110 110 - 210 210 - 230 230 - 250

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  • 本社所在地: 東京都

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