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半導体後工程用 直描式露光装置 DE (Direct Exposure)取扱企業
株式会社アドテックエンジニアリングカテゴリ
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 最小線幅 L/S | オーバーレイ Overlay | 光源波長 | 最大ワークサイズ Maximum Size |
|---|---|---|---|---|---|---|
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DE-2 W300 |
要見積もり |
2/2μm |
±1μm |
405nm (h線) |
Φ300mm |
