高い測定再現性を実現超小型エリプソメータ MACO-101-ファイブラボ株式会社

高い測定再現性を実現超小型エリプソメータ MACO-101
ファイブラボ株式会社

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この製品について

■タイプ指定半導体レーザー・裏面除去機能

■超小型･軽量出来得る限り小型軽量に設計してあります。設置スペースを小さく出来る他、移設の際にも便利です。

■再現性弊社独自の光学素子の採用により、高い測定再現性を実現しています。

■角度調整小さいながらも上部にオートコリメーターを装備していますので、傾いたサンプルも測定可能です。

■解析力付属する測定解析プログラムは、弊社ベストセラー機MARYのプログラムをそのまま使用できますので、多種の解析が可能です。

型番
この商品には2種類の型番があります

シリーズ
高い測定再現性を実現超小型エリプソメータ MACO-101

取扱企業
ファイブラボ株式会社

カテゴリ

メーター・計測機器

エリプソメーター

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高い測定再現性を実現超小型エリプソメータ MACO-101 品番2件

フィルター

	商品画像	品番	価格 (税抜)	測定方式	光源半導体レーザー (635nm標準) ヘネレーザー (632.8nm)	ビーム径 φ1mm φ0.8mm	偏光素子	位相板	測定精度 Δ；±0.03度Ψ；±0.03度 (但し、SiO2 (100nm) /Si測定時) Δ=±0.01° ψ=±0.01° (但し、SiO2 (1,000nm) /Si測定時)	入射角	測定時間	サンプルステージ	測定可能サンプル φ55以下厚み10t以下	ソフトウェア	PC	寸法 220W×125D×115Hmm　3kg	タイプヘネレーザータイプ
		MACO-101	要見積もり	回転位相子法	半導体レーザー (635nm標準)	φ1mm	グラントムソンプリズム	1/4λ	Δ；±0.03度Ψ；±0.03度 (但し、SiO2 (100nm) /Si測定時)	70°固定	Min0.05秒 (通常2秒)	φ50	φ55以下厚み10t以下	研究用・工業用を選択	IBM-PCまたは互換機	220W×125D×115Hmm　3kg	-
		MACO-101H	要見積もり	回転位相子法	ヘネレーザー (632.8nm)	φ0.8mm	グラントムソンプリズム	1/4λ	Δ=±0.01° ψ=±0.01° (但し、SiO2 (1,000nm) /Si測定時)	70°固定	Min0.05秒 (通常2秒)	φ50	-	研究用・工業用を選択	IBM-PCまたは互換機	-	ヘネレーザータイプ