全てのカテゴリ

閲覧履歴

真空アニール装置-真空アニール装置
真空アニール装置-アリオス株式会社

真空アニール装置
アリオス株式会社

アリオス株式会社の対応状況

返答率

100.0%

返答時間

1.7時間

返信のとても早い企業


無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■装置概要

本装置は3"~8"基板及び、真空部品などを真空中で200~600℃まで加熱するための高真空加熱装置 (アニール炉) です。イオンビームダメージ回復などのアニールや真空脱ガス処理にも最適です。製造工程と高温ガス処理、超高真空に追い込むにはでもご紹介していますが、所定の真空度に到達させるためには超高真空容器内で使用する部品の真空脱ガス処理も重要です。 イオンビームの特徴や試みについてはイオンビームとその応用をご覧下さい。一括処理枚数、基板サイズのご相談承ります。

■特徴

・カーボンヒーターにより、高温加熱が短時間で可能です。 ・ターボ分子ポンプによる排気で、クリーンな真空加熱が可能です。 ・ガス導入系を装備しており、各種ガス雰囲気中 (0.5Pa以下) での加熱が可能です。 ・排気操作はタッチパネル操作による自動運転です。 ・熱電対、又はパイロメーターにより加熱温度をPID制御します。

  • シリーズ

    真空アニール装置

この製品を共有する


140人以上が見ています


返答率: 100.0%

返答時間: 1.7時間


無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

真空アニール装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 加熱温度 ガス導入系 用力 設置面積 重量
真空アニール装置-品番-真空アニール装置

真空アニール装置

要見積もり

5×10^-6 Pa以下

最高 600℃ (面内均一性 ± 10℃以内)

最大 6系統 (バリアブルリークバルブ、VCR接続)

単相 AC200V 50A
単相 AC100V 20A
圧縮空気 (バルブ作動用) 0.5~0.7MPa
乾燥窒素 (大気解放用) 0.1~0.5MPa

約 1,400 (W) × 1,000 (D) mm

約 500 kg

フィルターから探す

真空炉をフィルターから探すことができます

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

消費電力 KW

0 - 20 20 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 250 250 - 300

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

加熱方式

輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

冷却方式

全周 上下 自然冷却 油焼入・ガス冷 ガス冷

この商品を見た方はこちらもチェックしています

真空炉をもっと見る

アリオスの取り扱い製品

アリオスの製品をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

1.7時間

会社概要

アリオス株式会社は、1972年に創業したプラズマ・真空装置製造メーカーです。 長年のプラズマ発生技術、イオン、電子利用技術開発で培ったノウハウもをとに、成膜装置、ラングミュアプローブ、ダイヤモンドCVD合成装置などの真...

もっと見る

  • 本社所在地: 東京都

関連キーワード

最近見た製品

Copyright © 2025 Metoree