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真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G-YHS-G
真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G-株式会社魁半導体

真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G
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この製品について

様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。 ワンタッチの簡易な操作性、導入しやすい安価な価格帯で提供させて頂きます。 表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。

■オプション

・ガス導入の複数化 ・ステージサイズの拡大・縮小 ・RFタイプ などオプション料金にて承ります。詳しくはお問い合せ願います。

  • シリーズ

    真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G

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真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 外形寸法 (mm) ステージ寸法 (mm)
真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G真空 ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G-品番-YHS-G

YHS-G

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562 (W) ×562 (D) ×360 (H)

φ100~

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会社概要

株式会社魁半導体は、プラズマによる材質の表面処理や洗浄などを用いた各種半導体製造装置を開発・製造・販売するメーカーです。 2002年に京都工芸繊維大学発ベンチャーとして学内で創業し、2007年に株式会社魁半導体を設立し...

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