高フォトンフラックスVUV光源・最小φ1mm3微小スポット発光光イオン化高輝度真空紫外光源-E-Lux™ 116

高フォトンフラックスVUV光源・最小φ1mm3微小スポット発光光イオン化高輝度真空紫外光源
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この製品について

■光イオン化高輝度真空紫外光源 製品概要光イオン化高輝度真空紫外光源E-Lux™ (Excitech社製) は、高純度の希ガス・ハロゲンガスを低圧電子線で励起して発光する画期的原理の光源です。この方法で生成されたVUVプラズマ発光点は、サイズが最小1mm3と非常に微小で、最大2×1,016photons/s sr nm cm2 (CW発振時) の高フォトンフラックスです。

オプションの集光光学系ユニットE-Lux™-EEEと組み合せて使用すると、高効率のVUVスポット照射が可能です。フォトンエネルギーは、7.2eV、8.4eV、9.8eV、10.7eVの全5種類で、CW/パルス発振切替、光強度、パルス幅、繰返周波数、トリガーの設定が行えます。光源ヘッド・集光光学系ユニット共にKF40真空フランジ付で、取り付けが簡単です。

■高フォトンフラックス・CW発振：最大2×1,016photons/s sr nm cm2
・パルス発振：最大 2×1,018photons/s sr nm cm2 (CW発振の約100倍) 

■設定パラメータ・出力強度設定
・発振モード設定 (CWモード、パルスモード) 
・パルス幅設定 (1～100µs、1ms～CW) 
・繰返し周波数設定 (最大10kHz) 
・トリガー設定

■主な用途、アプリケーション・イオン移動量と質量分析用 高効率光イオン化光源
・SPI-GC/MS：一光子イオン化 ガスクロマトグラフィー 質量分析
・APPI-LC/MS：大気圧光イオン化 液体クロマトグラフィー質量分析
・光物理 および 光化学研究用
・シンクロトロン実験のラボ予備実験用
・表面処理 (ポリマーキュアリング・マッティング、光学化学蒸着、表面洗浄・エッチング) 
・表面計測学 (分光反射測定、エリプソメトリー) 
・医学応用 (組織工学、バイオマテリアル化学) 

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
高フォトンフラックスVUV光源・最小φ1mm3微小スポット発光光イオン化高輝度真空紫外光源

取扱企業
株式会社東京インスツルメンツ

カテゴリ

光源

UV光源

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高フォトンフラックスVUV光源・最小φ1mm3微小スポット発光光イオン化高輝度真空紫外光源品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	発振中心波長	半値幅	フォトンエネルギー	フォトンフラックス CW	フォトンフラックス Pulsed	発光スポットサイズ	発振モード	パルス幅	繰返し周波数	ランプ寿命	窓材質	測定パラメータ	適合基準	真空対応
	E-Lux™ 116	要見積もり	116nm	<1nm	10.7eV	2×10^-14	2×10^-16	1mm3	連続発振 (CWモード) 、パルス発振 (パルスモード)	1~100μsと1ms~CW	最大10kHz	1,000時間保証	MgF2	出力強度設定、発振モード設定、パルス幅設定、繰返し周波数設定、トリガー設定	CE、CE-test certificate for IEC61010-1	ISO KF40フランジ接続、真空システムリークレート＜1×10-8 mbar L/s