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微細加工から研究開発 (R&D) 用途を網羅 マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3-FemtoLux 3
微細加工から研究開発 (R&D) 用途を網羅 マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3-株式会社東京インスツルメンツ

微細加工から研究開発 (R&D) 用途を網羅 マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3
株式会社東京インスツルメンツ

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この製品について

■製品概要

マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3は、研究開発 (R&D) 用途と産業用途にも使用でき、24時間7日間フル稼働を実現する完全空冷タイプのフェムト秒ファイバーレーザーです。 精密加工で求められるパルスコントロール機能 (繰返周波数/パルス数/パルス強度) を標準搭載しており、パルス幅は300fs〜5ps、繰り返し周波数はシングルショット~最⼤5MHz、パルスエネルギーは0~100%で可変できますので、お客様の要求に合わせて最適化がおこなえます。 バーストパルスにも対応しており、最大10µJ@1,064、5µJ@515nmを出力できます。515nmを出力する第2高調波発生オプションもあり幅広いアプリケーションに対応します。装置への組み込みを考慮したコンパクトかつ堅牢な筐体です。

■特長

・優れたビーム品質 (高いXY対称性) :TEM00 M2<1.2 ・パルスコントロール機能 (繰返周波数/パルス数/パルス強度) ・パルス幅:300fs~5ps間を可変可能 ・1,030nmで3W、515nmで1.5 W (典型値 最小~230fs) の発振出力 ・最大3μJ/パルスおよび10μJ/バースト (1,030nm) ・最大1.5μJ/パルスおよび5μJ/バースト (515nm) ・シングルショット ~最大10MHzの繰返し周波数 ・バーストパルス制御可能 ・完全空冷 ・24時間 7日間 フル稼働可能

■用途

・マーキング ・マイクロ・ナノ構造作成 ・マイクロマシニング ・フォトポリマー光重合 ・眼科手術 ・バイオメディカルイメージング ・OPO / OPA ・2光子顕微鏡

  • シリーズ

    微細加工から研究開発 (R&D) 用途を網羅 マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3

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微細加工から研究開発 (R&D) 用途を網羅 マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 標準発振波長 第2高調波発生オプションあり パルス幅 最大平均発振出力 1,030nm 最大平均発振出力 515nm 出力安定性 最大パルスエネルギー 1,030nm 最大パルスエネルギー 515nm エネルギー安定性 繰返し周波数 ビーム径 ビーム品質 レーザーヘッド寸法 レーザー電源寸法
微細加工から研究開発 (R&D) 用途を網羅 マイクロジュールクラス・フェムト秒産業用ファイバーレーザー FemtoLux 3-品番-FemtoLux 3

FemtoLux 3

要見積もり

1,030±2nm

515±1nm

300fs~5ps可変 (Typical ~230fs)

>3W

>1.2W

≤0.5%

最大3μJ/パルスおよび10μJ/バースト

最大1.2μJ/パルスおよび5μJ/バースト

<2%

シングルショット ~10MHz

1.8±0.2mm

TEM00 M2<1.2

294×437×119mm

436×449×140mm (標準仕様) 436×483×140mm (19インチラック)

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この商品の取り扱い会社情報

  • 本社所在地: 東京都
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