真空加圧リフロー炉 VPF300
株式会社シンアペックス

株式会社シンアペックスの対応状況

返答率

100.0%

返答時間

87.0時間

無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■300x300mmの加熱エリア、急速冷却機能、ギ酸還元プロセス対応、真空加圧リフロー炉450℃までの加熱に対応し、炉内圧力は100paから0.4Mpaまで幅広い圧力設定が可能な真空加圧リフロー炉 VPF300。真空チャンバーは0.4Mpaまでの加圧にも対応するため、圧力を幅広く変化させることができ、はんだ接合部にトラップされたボイドを脱泡および圧縮、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なボイドレスはんだ付けが可能です。装置は保温機能付のギ酸バブラーを装備可能。安定した濃度でギ酸と窒素の混合ガスを生成し、還元反応によってワークの酸化膜を除去、フラックスを使用しないフラックスレスはんだ付けに対応します。

■真空・加圧リフローによるボイド低減効果・大気リフローでは雰囲気の圧力変化が無いため、ボイドが閉じ込められたままの状態ではんだが凝固します。
・一般的な真空リフロー法ではボイドが大幅に減少しますが、圧縮しきれていないボイドが確認できます。
・真空＋加圧リフローでは、ボイドが更に圧縮され、殆どボイドが無いボイドレスはんだ付けを実現しています。

■VPF300 特長・300x300mmの加熱エリア
・優れた冷却システムによるプロセス時間の短縮
・ヒーター毎に出力設定が可能な上下加熱機構
・最大450℃までの加熱に対応
・窒素ガスとギ酸を混合する保温機能付バブラーを装備可
・時間、温度、圧力ベースで柔軟なプロセス構築が可能
・温度と圧力の測定データをPCへ保存可
・真空チャンバー内の温度測定用熱電対6本を装備
・5つのガスラインで柔軟なプロセス構築が可能
・2023モデルは加熱および冷却機構を改良、ワークの両面加熱に標準対応
・温度、圧力、ガスラインの設定および編集はタッチパネル上で柔軟に行えます。
・温度と圧力の測定データはパソコンにダウンロード可

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
真空加圧リフロー炉 VPF300

取扱企業
株式会社シンアペックス

カテゴリ

加工・工作機器

真空炉

半導体製造

リフロー装置

熱源

加熱炉

加工・工作機器

リフロー炉

この商品に関する問題を報告する

90人以上が見ています

返答率: 100.0%

無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

真空加圧リフロー炉 VPF300 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	有効加熱エリア	設定温度	到達真空度	最大加圧	ヒーター昇温速度	対応雰囲気ガス	寸法	重量	電源
	VPF300	要見積もり	300mmx300mm	最大450℃	10Pa (ドライ真空ポンプは装置に内蔵)	0.4MPa	Max.250℃/分、昇温速度設定可	窒素ガス、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガス等	W783mmxD720mm H1,470mm (表示灯含む)	約200kg	三相200V、Max.45A