真空加圧リフロー炉 VPF300
株式会社シンアペックス
この製品について
■300x300mmの加熱エリア、急速冷却機能、ギ酸還元プロセス対応、真空加圧リフロー炉
450℃までの加熱に対応し、炉内圧力は100paから0.4Mpaまで幅広い圧力設定が可能な真空加圧リフロー炉 VPF300。真空チャンバーは0.4Mpaまでの加圧にも対応するため、圧力を幅広く変化させることができ、はんだ接合部にトラップされたボイドを脱泡および圧縮、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なボイドレスはんだ付けが可能です。装置は保温機能付のギ酸バブラーを装備可能。安定した濃度でギ酸と窒素の混合ガスを生成し、還元反応によってワークの酸化膜を除去、フラックスを使用しないフラックスレスはんだ付けに対応します。■真空・加圧リフローによるボイド低減効果
・大気リフローでは雰囲気の圧力変化が無いため、ボイドが閉じ込められたままの状態ではんだが凝固します。 ・一般的な真空リフロー法ではボイドが大幅に減少しますが、圧縮しきれていないボイドが確認できます。 ・真空＋加圧リフローでは、ボイドが更に圧縮され、殆どボイドが無いボイドレスはんだ付けを実現しています。■VPF300 特長
・300x300mmの加熱エリア ・優れた冷却システムによるプロセス時間の短縮 ・ヒーター毎に出力設定が可能な上下加熱機構 ・最大450℃までの加熱に対応 ・窒素ガスとギ酸を混合する保温機能付バブラーを装備可 ・時間、温度、圧力ベースで柔軟なプロセス構築が可能 ・温度と圧力の測定データをPCへ保存可 ・真空チャンバー内の温度測定用熱電対6本を装備 ・5つのガスラインで柔軟なプロセス構築が可能 ・2023モデルは加熱および冷却機構を改良、ワークの両面加熱に標準対応 ・温度、圧力、ガスラインの設定および編集はタッチパネル上で柔軟に行えます。 ・温度と圧力の測定データはパソコンにダウンロード可-
シリーズ
真空加圧リフロー炉 VPF300
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取扱企業
株式会社シンアペックス
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カテゴリ
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真空加圧リフロー炉 VPF300 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 有効加熱エリア | 設定温度 | 到達真空度 | 最大加圧 | ヒーター昇温速度 | 対応雰囲気ガス | 寸法 | 重量 | 電源 |
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VPF300 |
要見積もり | 300mmx300mm | 最大450℃ | 10Pa (ドライ真空ポンプは装置に内蔵) | 0.4MPa | Max.250℃/分、昇温速度設定可 | 窒素ガス、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガス等 | W783mmxD720mm H1,470mm (表示灯含む) | 約200kg | 三相200V、Max.45A |
