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半導体プロセス温度モニター NTM-DeLTA-NTM-DeLTA
半導体プロセス温度モニター NTM-DeLTA-株式会社アイ・アール・システム

半導体プロセス温度モニター NTM-DeLTA
株式会社アイ・アール・システム

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この製品について

半導体プロセス中のウエハ温度のモニタリングは非常に重要なプロセス・パラメータですが、今まで適切な測定方法が確立できていない為に、温度以外のパラメータでプロセス状況を推測してきました。その理由として、一般の放射温度計では測定対象物の放射率をユーザーが適当に決めなければならないので、ウエハ放射率のロット内のばらつきによる温度誤差により、温度測定自体の信頼性が乏しいからです。 弊社取扱のリアルタイム放射率補正型半導体プロセス温度モニターは、今まで無し得なかった対象ウエハの放射率をリアルタイムに測定し補正を行う為、ウエハ膜の種類に依存せず正確な温度測定が実現可能になりました。また、独自の赤外線高感度測定技術により、低温まで (検出器の感度限界近くまで) 測定出来ます。今まで問題になっていたチャンバー中の迷光に付きましても、さまざまなソリューションをご提供する事ができます。

■特長

・In situ、非接触プロセス温度モニター ・リアルタイム放射率&温度測定 (同じ測定ポイント) ・高感度、広いダイナミック・レンジを達成 ・高サンプリング・レート (~3kHz) に対応 ・豊富なインターフェース ・ETA、DeLTAの併用により放射率を自動入力可能

■用途

・RTPプロセス ・PVDプロセス ・CVDプロセス ・エッチング・プロセス ・MOCVDプロセス、その他

  • シリーズ

    半導体プロセス温度モニター NTM-DeLTA

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半導体プロセス温度モニター NTM-DeLTA 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜) 測定項目 測定温度範囲 温度精度 温度再現性 測定レート インターフェース 備考
半導体プロセス温度モニター NTM-DeLTA-品番-NTM-DeLTA

NTM-DeLTA

要見積もり

ウエハ温度・ウエハ放射率

70℃~2,000℃ (アプリケーションによる)

~500℃:±0.8℃、~2,000℃:±0.15%T

±0.2℃ (typical)

~400Hz (放射率測定あり) 、~3kHz (放射率測定なし)

RS232C、アナログ、Ethernet

RoHS対応製品

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温度ロガーの中で同じ条件の製品
温度精度: 0 - 1℃

フィルターから探す

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測定温度範囲 ℃

-200 - -40 -40 - 0 0 - 80 80 - 260 260 - 500 500 - 1,820

測定精度 ℃

0 - 1 1 - 2 2 - 5

測定間隔 秒

0 - 1 1 - 10 10 - 100 100 - 1,000 1,000 - 10,000 10,000 - 90,000

電池寿命 日

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 4,000

使用環境温度 ℃

-100 - 0 0 - 100 100 - 400

使用環境湿度 %rh

0 - 80 80 - 90 90 - 95 95 - 100

分解能 ℃

0 - 0.01 0.01 - 0.1 0.1 - 10

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社アイ・アール・システムは、光学機器の輸入販売、光学機器を用いた測定サービスを展開する企業です。 光計測機器の輸入販売商社として創業し、現在では専門知識を持つ技術者を抱えることで修理、メンテナンスなどの保守サービ...

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  • 本社所在地: 東京都
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