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エネルギー分散型蛍光X線分析装置 進化した元素分析装置 NEX CG II Series-株式会社リガク

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返答時間

52.4時間

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手法

蛍光X線分析 (XRF)

用途

固体、液体、粉末、合金および薄膜の元素分析

主要コンポーネント

50W 50kV励起 PdターゲットX線管 (NEX CG II) 100W 65kV励起 PdターゲットX線管 (NEX CG II+) SDD検出器

ソフトウェア

高機能ソフトウェア QuantEZ

本体サイズ

463 (W) x 492 (D) x 382 (H) mm

質量

約65 kg (NEX CG II) 約68 kg (NEX CG II+)

所要電源

単相AC100V 3.8A (NEX CG II オプション除く) 単相AC100V 5.2A (NEX CG II+ オプション除く)

この製品について

次世代偏光光学系エネルギー分散型蛍光X線分析装置

■進化した元素分析装置

NEXCGIISeriesは、分析精度を重視した偏光光学系のエネルギー分散型蛍光X線装置 (EDXRF) です。各種油類や液体、固体、金属、ポリマー、生体試料、粉末試料、ペースト試料、コーティング試料、薄膜試料など、さまざまな種類の試料の主成分および微量成分に対し、迅速に定性分析および定量分析や膜厚測定を行います。 概要

■高度な研究用途から産業用品質管理まで

NEXCGIISeriesは汎用の元素分析装置であり、ppmレペルから100%まで広範囲の元素分析が可能で多くの業界で使用されています。使用アプリケーションは産業および工場内の品質保証から研究開発まで多岐にわたります。分析ソフトウェアQuantEZは研究開発で専門家が使用するのに有用であり、また、らくらく分析機能は技術者以外のオペレーターにとっても使いやすい仕様となっています。これにより、ユーザーは複雑なアプリケーションでも容易に分析ができ、農業土壌や植物材料の検査、動物飼料、廃油、環境モニタリング、医薬品、化粧品といったあらゆる試料の元素分析用途に最適です。

■優れた分析力を実現

NEXCGIISeriesは用途に応じてX線管出力50W50kV励起 (NEXCGII) または65kV100W65kV励起 (NEXCGII+) を提供します。いずれもエンドウィンドウパラジウム (Pd) 陽極X線管を採用し、ナトリウム (Na) からウラン (U) までの元素範囲をカバーする5種類の二次ターゲットと独自の偏光光学系により優れた分析力を発揮します。高スループットの大面積シリコンドリフト検出器、ファンダメンタル・パラメータ法 (FP法) を用いた高度なRPF-SQX解析ソフトウェアを組み合わせて、業界で最も高感度なEDXRFの測定を実現します。

  • 型番

    NEX CG II Series

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エネルギー分散型蛍光X線分析装置 進化した元素分析装置 NEX CG II Series NEX CG II Seriesの性能表

商品画像 価格 (税抜) 手法 用途 主要コンポーネント ソフトウェア 本体サイズ 質量 所要電源 オプション テクノロジー
エネルギー分散型蛍光X線分析装置 進化した元素分析装置 NEX CG II Series-品番-NEX CG II Series 要見積もり 蛍光X線分析 (XRF) 固体、液体、粉末、合金および薄膜の元素分析 50W 50kV励起 PdターゲットX線管 (NEX CG II)
100W 65kV励起 PdターゲットX線管 (NEX CG II+)
SDD検出器
高機能ソフトウェア QuantEZ 463 (W) x 492 (D) x 382 (H) mm 約65 kg (NEX CG II)
約68 kg (NEX CG II+)
単相AC100V 3.8A (NEX CG II オプション除く)
単相AC100V 5.2A (NEX CG II+ オプション除く)

真空排気機構、ヘリウム置換機構試料交換機構
試料交換機、試料スピン機構、FP法、その他ソフトウェアオプション

偏光光学系を用いたエネルギー分散型XRF


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使用用途

#元素分析 #構造解析 #研究開発 #マッピング #異物検出 #微小部測定 #粉末試料 #薄膜

測定原理

波長分散型 エネルギー分散型 回折型 蛍光型

分析対象

元素分析型 結晶構造解析型

測定対象形状

バルク対応型 微小領域対応型

装置構成

卓上型 据置型

検出器

FPD HPC検出器 シリコンドリフト検出器

測定可能なq範囲 nm-1

0 - 30 30 - 50

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

52.4時間

会社概要

株式会社リガクは、X線分析装置メーカーです。
リガクはX線分析に要する基礎技術と要素部品を独自に開発しており、X線源、光学機器、検出器等の主要な要素技術について世界のトップ水準にあります。

19...

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  • 本社所在地: 東京都

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