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波長分散型蛍光X線分析装置 走査型蛍光X線分析装置 下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IVi-株式会社リガク

ZSX Primus IVi | 波長分散型蛍光X線分析装置 走査型蛍光X線分析装置 下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IVi
株式会社リガク

株式会社リガクの対応状況

返答率

100.0%

返答時間

52.4時間

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手法

波長分散型蛍光X線分析 (WDXRF)

用途

固体、液体、粉末、合金および薄膜の元素分析

主要コンポーネント

Rhターゲット4kWまたは3kW、 試料交換機最大60試料

主なオプション

He置換、r-θ駆動の試料ステージ、ポイント/マッピング分析、試料観察機構

制御 (PC)

外部PC、MS Windows® OS、ZSX Guidance ソフトウェア

本体寸法

840 (W) x 1,250 (H) x 980 (D) mm

質量

500 kg

電源

三相 200V、40 A、 50/60 Hz

この製品について

■アプリケーションの共有化が容易

上面照射タイプZSXPrimusIVと下面照射タイプZSXPrimusIViとのハード・ソフトウェアの共通プラットフォーム化によって両機種および同じ機種間でアプリケーションの共有化が容易に行えます。 概要

■高度な自動判断機能を搭載したSQX分析

SQX分析は定性分析結果を用いて定量分析を行うスタンダードレスFP分析です。 ・重元素から発生する高次線の影響を評価し、最適な測定条件を自動選択して、より正確なSQX分析を実現 ・EZスキャンに微量元素を検出する定角測定設定モードを追加 ・EZスキャンに測定時間2分以内の超高速モードを搭載 ・多層膜試料のスクリーニング分析に対応 ・任意の試料フィルムを試料フィルム補正に追加可能 ・SQX散乱線FP分析 (粉末・ポリマー用) が30mm径にも対応 ・SQX再計算時にSQX散乱線FP分析への変更が可能

■ヘリウム雰囲気への迅速な置換

試料室と分光室の間に真空隔壁を追加することによりヘリウム雰囲気への置換時間を短縮できます。また、液体試料ホルダー検出機構の追加により真空雰囲気へ液体試料を導入間違いがなくなり安心して測定できます。

■軽元素用ガスシールド型プロポーショナルカウンターS-PCLE

ガスシールド型検出器で分析におけるガス排出はゼロ。検出器用ガスボンベは設置不要です。

■WDXシステムによるポイント/マッピング分析

r-θ駆動の試料ステージ採用で測定ポイントによるX線強度変化が生じることなく、100μmのマッピング位置分解能で、プリント基板上の配線などの分析や各種材料の介在物などの微小部分析が可能です。

■窒素・ヘリウムガス置換機構

ヘリウムガス置換機構に対し窒素ガスも雰囲気ガスとして使用可能となりました。窒素ガス置換時のSQX分析範囲は15P～96Cmで、SQX散乱線FP法は適用外です。

  • 型番

    ZSX Primus IVi

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波長分散型蛍光X線分析装置 走査型蛍光X線分析装置 下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IVi ZSX Primus IViの性能表

商品画像 価格 (税抜) 手法 用途 主要コンポーネント 主なオプション 制御 (PC) 本体寸法 質量 電源 テクノロジー
波長分散型蛍光X線分析装置 走査型蛍光X線分析装置 下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置 ZSX Primus IVi-品番-ZSX Primus IVi 要見積もり 波長分散型蛍光X線分析 (WDXRF) 固体、液体、粉末、合金および薄膜の元素分析 Rhターゲット4kWまたは3kW、 試料交換機最大60試料 He置換、r-θ駆動の試料ステージ、ポイント/マッピング分析、試料観察機構 外部PC、MS Windows® OS、ZSX Guidance ソフトウェア 840 (W) x 1,250 (H) x 980 (D) mm 500 kg 三相 200V、40 A、 50/60 Hz

走査型波長分散蛍光X線分析 (WDXRF)


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X線分析装置

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使用用途

#元素分析 #構造解析 #研究開発 #マッピング #異物検出 #微小部測定 #粉末試料 #薄膜

測定原理

波長分散型 エネルギー分散型 回折型 蛍光型

分析対象

元素分析型 結晶構造解析型

測定対象形状

バルク対応型 微小領域対応型

装置構成

卓上型 据置型

検出器

FPD HPC検出器 シリコンドリフト検出器

測定可能なq範囲 nm-1

0 - 30 30 - 50

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会社概要

株式会社リガクは、X線分析装置メーカーです。
リガクはX線分析に要する基礎技術と要素部品を独自に開発しており、X線源、光学機器、検出器等の主要な要素技術について世界のトップ水準にあります。

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