真空高温炉 | ナノ粒子関連装置真空高温炉
有限会社渕田ナノ技研

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加熱温度

2,000℃

真空

10-2Pa

付属機能

黒鉛通電機構およびその電源付き

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この製品について

型番
真空高温炉

シリーズ
ナノ粒子関連装置真空高温炉

取扱企業
有限会社渕田ナノ技研

カテゴリ

加工・工作機器

真空炉

熱源

加熱炉

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使用用途

#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡

加熱方式

抵抗加熱型高周波加熱型輻射加熱直接通電抵抗加熱

構造形式

横型炉縦型炉チャンバ型バッチ型

真空到達度

低真空型中真空型高真空型

特殊機能

ガス置換型急速昇降温型

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

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有限会社渕田ナノ技研は、2004年に設立されたエアロゾル化ガスデポジション装置メーカーです。製造拠点として茨城県に工場を設け、半導体基板の製造のために使用される密閉容器に入れられた微粒子をノズルで噴射することによって...

本社所在地: 茨城県

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