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ナノ粒子関連装置 真空高温炉 真空高温炉の性能表

商品画像 価格 (税抜) 加熱温度 真空 付属機能
ナノ粒子関連装置 真空高温炉-品番-真空高温炉 要見積もり 2,000℃ 10-2Pa 黒鉛通電機構およびその電源付き

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使用用途

#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡

加熱方式

抵抗加熱型 高周波加熱型 輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

構造形式

横型炉 縦型炉 チャンバ型 バッチ型

真空到達度

低真空型 中真空型 高真空型

特殊機能

ガス置換型 急速昇降温型

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

有限会社渕田ナノ技研は、2004年に設立されたエアロゾル化ガスデポジション装置メーカーです。 製造拠点として茨城県に工場を設け、半導体基板の製造のために使用される密閉容器に入れられた微粒子をノズルで噴射することによって...

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  • 本社所在地: 茨城県

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