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Levitor RTP System 200mm/300mmウェーハRTPアニール装置 LEVO6000-株式会社エイチ・ティー・エル

この製品について

150umガスベアリングによる伝導熱アニールで、ランプ型放射熱アニールの問題を解決。

■特長

・900℃/秒の急速加熱、-300℃/秒の急速冷却。 ・面内均一な加熱冷却で、ウェーハの反りを抑制し、フォトリソの歩留まりを改善。 ・200℃の低温からから1,100℃まで、Wafer-to-Waferの温度安定性。 ・高スループットアニール:スパイク=0.1秒115 wph / ソーク=20秒86wph ph ・様々な適用プロセス・ガスで、抜群の安定性 ・Levitor4000:安定ガス、LEVO6000:活性ガス (水素、アンモニア等)

  • 型番

    LEVO6000

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Levitor RTP System 200mm/300mmウェーハRTPアニール装置 LEVO6000 LEVO6000の性能表

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Levitor RTP System 200mm/300mmウェーハRTPアニール装置 LEVO6000-品番-LEVO6000 要見積もり

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使用用途

#金属熱処理 #半導体プロセス #自動車部品製造 #電子部品製造 #ガラス製造 #セラミックス製造 #磁性材料処理 #溶接前後処理

温度範囲 ℃

100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,300 1,300 - 1,500 1,500 - 1,800

昇温速度 ℃/sec

10 - 25 25 - 50 50 - 100 100 - 150

降温速度 ℃/sec

10 - 50 50 - 100 100 - 150

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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  • 本社所在地: 東京都

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