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描画速度
13 mm/s (2,412 mm2/min., Target)
最小線幅 (L/S)
750 nm
アドレスグリッド
1 nm (CAD 設計グリッド)
CD 均一性
60 nm
CD 直線性
50 nm
レジストレーション
90 nm (Target)
型番
Pegasus1416取扱企業
株式会社エイチ・ティー・エルカテゴリ
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半導体露光装置の製品32点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 描画速度 | 最小線幅 (L/S) | アドレスグリッド | CD 均一性 | CD 直線性 | レジストレーション |
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要見積もり | 13 mm/s (2,412 mm2/min., Target) | 750 nm | 1 nm (CAD 設計グリッド) | 60 nm | 50 nm | 90 nm (Target) |
半導体露光装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途がフォトマスクの製品
半導体露光装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ナノテクノロジー #高解像度 #周期的構造 #LED #PCB #研究開発 #非平坦基板 #フォトニクス #光回折露光方式
ステッパ型 スキャナ型 フラッシュ型 ダイレクト描画型光源種類
紫外光型 エキシマレーザー型対応基板サイズ
6インチ対応型 8インチ対応型 12インチ対応型精度制御方式
光学制御型 ステージ制御型光源波長 nm
300 - 400 400 - 500 500 - 600最小露光線幅 μm
0 - 10 10 - 20ワークサイズ mm
0 - 100 100 - 200 200 - 300露光領域 mm
0 - 50 50 - 100 100 - 150ステージ
手動XYZθステージ 電動XYZθステージ 5軸ステージ重量 kg
0 - 50 50 - 100 100 - 300 300 - 400 400 - 1,300
