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ZLMレーザー干渉計 ZML 700-エルアンドエム株式会社

全型番で同じ値の指標

測定対象物の速度

最大12m/s

インターポレーションフリー分解能

1.25 nm (平面鏡干渉計 0.625 nm、二重平面鏡干渉計 0.3 nm)

加速制限

なし

信号遅延時間

< 100ns

耐性

電磁干渉に対する耐性

真空中波長He-Neレーザー

632.8 nm

波長安定性

2 × 10⁻⁹ 1時間 / 2 × 10⁻⁸ 生涯

直径

6 mm (オプションで3.2 mm)

最大出力ビーム出力

1 mW (レーザー クラス 2)

レーザーあたりの測定軸数

最大6までオプション

測定範囲、距離測定

最大40 m オプションで最大120 m

分解能、距離、位置測定

2.5 nm (三重反射鏡干渉計) 1.25 nm (平面鏡干渉計)

真空中でのAUKによる精度距離および位置測定

± 0.4 ppm (μ/m) ± 0.08 ppm (μ/m)

測定範囲、角度測定

±15°から20 mの長さ

角度測定分解能

0.062 μrad (12・10⁻³ arc sec)

精度角度測定

± 0.1 ppm

角度測定精度 (ステップバイステップの手順)

± 0.05 arcsec/mの移動 速度 (直線移動光学系)

測定範囲、平坦度測定

長さ20 mまで

分解能 平坦度測定

0.062 μrad (12・10⁻³ arc sec)

精度 平坦度測定

± 測定値の0.2% ±0.05μrad/mの変位

測定範囲、真直度測定

± 長さ2 m または10 mで 5 mm 長さ30 m (オプション) 、角度干渉計付き

解像度、真直度測定

2 mで29 nm、10 mで145 nm

精度 2 mから10 mまでの真直度測定

測定値の0.5% ±測定値の2.5%

重直度測定の測定範囲

± 2 m または10 mの長さで 5 mm

最大2 mから10 mの重直性測定の分解能

2 mで29 nm、10 mで145 nm

最大移動速度

4 m/s、オプション16m/s 並進 320 rad/s ロータリー

精度、速度、測定

± 0.5 ppmの読み取り値

最大加速度

制限なし

非線形

± 1.25 nm (三重反射鏡干渉計) ± 0.62 nm (平面鏡干渉計)

インターフェイス

直交信号 32ビット (リアルタイム) Δt≈20ns

この製品について

■ほとんどのアプリケーションに対応する単軸レーザー干渉計

デュアル周波数レーザー変位測定システムZLM 700により、レーザー干渉計の構築における長い伝統がイエナで受け継がれています。安定化ヘリウムネオンガスレーザーの実証済みのスケール具現化特性は、最新の電子機器と組み合わせて、新しいレーザー干渉測定システムを形成します。 プログラマブルASICデバイスは、お客様の要件の技術的な実装において全く新しい可能性を可能にします。ZLM 700の可能なアプリケーションは、位置推定システムから多軸位置決めの装置、機械やシステムの完全な制御システムまで多岐にわたります。ZLM 700は、豊富のツアイス光学モジュールを備えた完全モジュール式システムとして、レーザー干渉学で可能なすべての測定タスクの解決を保証します。

■機能

開発されたデュアル周波数レーザー変位測定システムZLM 8000の特許取得済みの動作原理は、He-Neガスレーザーのデュアル周波数ヘテロダイン法に基づいています。レーザーの2つのモードの640 MHzのビート周波数は、熱的に0.002 ppmに安定しており、信号処理のために4倍になっています。この高周波信号処理により、補間誤差や信号遅延の非常に低い遅延なしに、非常に高いオブジェクト速度での測定が可能になります。光サンプルは、干渉計の光学系からPCプラグインカード上の測定データ収集装置に測定信号を転送するために使用されるため、磁歪現象の影響を受ける信号帯域が排除されます。したがって、ZLM 8000応用分野は、適応する産業環境から測定室内条件や精度まで多岐にわたります。 PCプラグインカードの代わりに、測定値の出力や制御ループでの使用のための多数のインターフェースを備えた測定信号処理用の独立した電子ユニットが提供されています。このバリアントは、最大6軸までアップグレードできます。

  • 型番

    ZML 700

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ZLMレーザー干渉計 ZML 700 ZML 700の性能表

商品画像 価格 (税抜) 測定対象物の速度 インターポレーションフリー分解能 加速制限 信号遅延時間 耐性 真空中波長He-Neレーザー 波長安定性 直径 最大出力ビーム出力 レーザーあたりの測定軸数 測定範囲、距離測定 分解能、距離、位置測定 真空中でのAUKによる精度距離および位置測定 測定範囲、角度測定 角度測定分解能 精度角度測定 角度測定精度 (ステップバイステップの手順) 測定範囲、平坦度測定 分解能 平坦度測定 精度 平坦度測定 測定範囲、真直度測定 解像度、真直度測定 精度 2 mから10 mまでの真直度測定 重直度測定の測定範囲 最大2 mから10 mの重直性測定の分解能 最大移動速度 精度、速度、測定 最大加速度 非線形 インターフェイス
ZLMレーザー干渉計 ZML 700-品番-ZML 700 要見積もり 最大12m/s 1.25 nm (平面鏡干渉計 0.625 nm、二重平面鏡干渉計 0.3 nm) なし < 100ns 電磁干渉に対する耐性 632.8 nm 2 × 10⁻⁹ 1時間 / 2 × 10⁻⁸ 生涯 6 mm (オプションで3.2 mm) 1 mW (レーザー クラス 2) 最大6までオプション 最大40 m オプションで最大120 m 2.5 nm (三重反射鏡干渉計)
1.25 nm (平面鏡干渉計)
± 0.4 ppm (μ/m)
± 0.08 ppm (μ/m)
±15°から20 mの長さ 0.062 μrad (12・10⁻³ arc sec) ± 0.1 ppm ± 0.05 arcsec/mの移動
速度 (直線移動光学系)
長さ20 mまで 0.062 μrad (12・10⁻³ arc sec) ± 測定値の0.2%
±0.05μrad/mの変位
± 長さ2 m または10 mで
5 mm 長さ30 m (オプション) 、角度干渉計付き
2 mで29 nm、10 mで145 nm 測定値の0.5%
±測定値の2.5%
± 2 m または10 mの長さで 5 mm 2 mで29 nm、10 mで145 nm 4 m/s、オプション16m/s 並進
320 rad/s ロータリー
± 0.5 ppmの読み取り値 制限なし ± 1.25 nm (三重反射鏡干渉計)
± 0.62 nm (平面鏡干渉計)
直交信号
32ビット (リアルタイム)
Δt≈20ns

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使用用途

#表面形状測定 #振動解析 #変位計測 #厚み測定 #波面解析 #材料試験 #光学検査 #半導体製造 #マイクロマシニング #精密加工 #研究開発

測定方式

干渉型 マイケルソン型

使用環境

空気中測定型 真空中測定型 高温測定型 高精度基準型

測定対象

幾何形状測定型 微細な変位測定型 全面測定型

位置決め測定分解能 nm

0 - 1 1 - 2 2 - 3

位置決め測定可能距離 m

0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000

位置決め計測精度 ppm

0 - 0.2 0.2 - 0.5

最大移動速度 m/s

0 - 2 2 - 5 10 - 15 15 - 20

光源

VCSEL ファイバーカップルレーザーダイオード ヘリウムネオンレーザー 白12発光ダイオードアレイ 半導体レーザー

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